Occasion PR HOFFMAN PRIA-S 50T #9197380 à vendre en France

PR HOFFMAN PRIA-S 50T est un équipement de broyage, de nappage et de polissage des plaquettes de haute précision. Ce système est conçu pour répondre aux normes les plus élevées de précision et de précision dans le broyage, le rodage et le polissage des plaquettes avec des composants électroniques délicats. L'unité PRIA-S 50T est particulièrement adaptée aux besoins difficiles et complexes du traitement des semi-conducteurs. Il est connu pour sa vitesse, sa précision et sa robustesse. PR HOFFMAN PRIA-S 50T est une machine entièrement automatisée conçue pour exécuter une grande variété d'opérations de traitement. Il dispose d'un design moderne et modulaire, qui permet la personnalisation et la polyvalence. L'outil contient un « contrôleur de broyage » qui est utilisé pour programmer le processus de broyage selon un ensemble donné de paramètres. Il comprend également un « bras d'entrée » qui déplace la plaquette vers la meule pour un contrôle précis de la position de la plaquette. L'actif dispose d'un ensemble de capteurs automatisés qui surveillent constamment la position de la plaquette, garantissant une précision sans faille. Il est également équipé d'un modèle de refroidissement pour protéger les structures délicates de la plaquette contre les dommages thermiques. Cet équipement est conçu pour éliminer le facteur humain du processus de broyage et assurer des résultats cohérents. PRIA-S 50T est capable de broyer, tapisser et polir des plaquettes d'une largeur allant de 5 microns à 1000 microns. Ce système peut être utilisé pour la finition de divers matériaux tels que le silicium, l'oxyde de silicium, l'arséniure de gallium et le nitrure de gallium. Cette unité est également capable de réaliser des trous miroir ultra-précis avec des diamètres aussi petits que 2 microns. PR HOFFMAN PRIA-S 50T est une machine puissante conçue pour offrir des performances supérieures. Avec sa technologie de pointe et son design moderne, cet outil est parfait pour les applications les plus difficiles dans le traitement des semi-conducteurs. C'est une option fiable, économique et conviviale pour tout laboratoire ou environnement de production.