Occasion ASYST VersaPort 2200 Shuttle #293748971 à vendre en France

ASYST VersaPort 2200 Shuttle
ID: 293748971
Load ports.
La navette ASYST-Port 2200 est un équipement entièrement automatisé de manutention des plaquettes utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour les applications à haut débit avec la capacité de collecter et traiter rapidement les plaquettes, tout en les gardant propres et non endommagés. La Navette VersaPort 2200 comprend un bras mécanique intelligent qui est capable du mouvement précis le long du x, y et des z-haches créant une capacité de mouvement 3D. Il est conçu de telle sorte que le bras ne se déplace que lorsque nécessaire, assurant que les plaquettes restent propres et non endommagées. Le système comprend également un poste de réception et d'échangeur de plaquettes, où les plaquettes peuvent être rapidement déplacées entre différentes cassettes et chambres. La navette ASYST-Port 2200 dispose de fonctionnalités logicielles avancées conçues pour assurer un flux de travail efficace tout au long du cycle de traitement. Il peut traiter simultanément jusqu'à 4 plaquettes et peut communiquer avec plusieurs systèmes partenaires, lui permettant d'interagir et de contrôler d'autres équipements dans le processus de semi-conducteur. Son unité de vision unique, intégrée à une caméra numérique, détecte les plaquettes en fonction de leur type et de leur épaisseur, puis ajuste le chargement et le fonctionnement du processeur en conséquence. La Navette VersaPort 2200 est équipée avec les composantes d'antivibration et d'humidification bruyantes qui garantissent l'opération tranquille dans tout environnement. La machine est conçue pour être difficile d'accès et ne peut être ouverte que par un code PIN spécial. Ceci évite toute interférence non autorisée avec l'outil. La navette ASYST-Port 2200 est exceptionnellement fiable, assurant des résultats cohérents de haute qualité tout en répondant aux exigences strictes de l'industrie en matière de propreté. L'actif est capable de débits très rapides, de faibles niveaux de contamination par les particules et d'une flexibilité et d'une évolutivité exceptionnelles, ce qui en fait un choix idéal pour tout processus semi-conducteur.
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