Occasion ACCORD 400 #293656296 à vendre en France

Fabricant
ACCORD
Modèle
400
ID: 293656296
Substrate cleaner.
ACCORD 400 est un laveur de plaquettes et de masques conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Cette machine est utilisée pour nettoyer et nettoyer la surface d'une plaquette ou d'un masque pour éliminer tout résidu de la gravure ou d'autres procédés. C'est un équipement hautement automatisé avec des capacités d'inspection laser et optique intégrées. Cet épurateur à plaquettes et masques est constitué d'un cadre en acier inoxydable et d'une série de disques rotatifs. Les disques sont alimentés par DC Motor et sont conçus pour fonctionner à des vitesses réglables. L'épurateur a un environnement contrôlé et est conçu pour réduire la contamination croisée de la surface de la plaquette ou du masque. L'épurateur dispose également d'un système d'entraînement de tension utilisant des roulements à billes et est conçu pour fournir une pression maximale d'épuration. 400 est équipé d'une unité de contrôle laser et optique de pointe. Cette machine inspecte la surface de la plaquette ou du masque pour détecter les défauts et peut être programmée pour détecter les différences de texture de surface, voire de particules microscopiques. L'épurateur dispose également de systèmes intégrés de suivi des processus et de la production avec un RCP intégré (contrôle statistique des processus). Cela permet au laveur de surveiller la cohérence du processus de lavage et de détecter toute caractéristique non conforme. L'épurateur dispose également de deux types de têtes de polissage ; une tête plate et une tête d'angle. La tête plate est idéale pour les surfaces planes comme la surface d'une plaquette, tandis que la tête d'angle est plus adaptée aux zones avec des formes ou des caractéristiques complexes. La vitesse réglable de l'épurateur garantit que la plaquette ou le masque est poli au niveau requis de la manière la plus efficace. L'ACCORD 400 dispose également d'un outil de contrôle de l'humidité qui assure que l'environnement du processus d'épuration est maintenu dans les paramètres requis. En outre, l'épurateur dispose également d'un actif de collecte de poussière qui capture toutes les particules créées au cours du processus d'épuration. Ce modèle de collecte de poussière garantit que les surfaces épurées sont exemptes de poussières ou d'autres contaminants. 400 wafer and mask scrubber est un excellent choix pour l'industrie des semi-conducteurs car il assure la précision et la cohérence du processus d'épuration, et aide à réduire les déchets et à augmenter la productivité. La machine est entièrement automatisée et dispose de capacités d'inspection laser et optique intégrées, vitesse d'épuration réglable, ainsi que d'un équipement de collecte de poussière et de contrôle de l'humidité.
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