Occasion ACCRETECH / TSK A-CS-100A #9238103 à vendre en France

ID: 9238103
Manual spin cleaner Process: Wafer saw.
ACCRETECH/TSK A-CS-100A Wafer & Mask Scrubber est une machine utilisée pour le nettoyage et la gravure dans la production de dispositifs semi-conducteurs. La machine est composée d'une chambre tournante qui abrite la plaquette et d'un bras de lavage qui nettoie la surface de la plaquette. Le bras d'épuration est monté sur un bras automatisé qui comprime des plaquettes propres sur la chambre tournante. La rotation de la chambre crée un mouvement d'épuration qui élimine les particules et les couches d'oxyde de la surface de la plaquette. Le processus de nettoyage commence par la pose de la plaquette sur le bras de lavage. Le bras de lavage effectue alors une série de passes en appliquant un mélange de boues abrasives sur la surface de la plaquette. Le mélange de boues est combiné à une source d'activation ultrasonique et permet de desserrer et d'éliminer les particules, les oxydes et d'autres résidus de la surface de la plaquette. Le liquide utilisé dans le processus de nettoyage est vidangé et remplacé par la solution de nettoyage finale. Il s'agit d'une étape importante du procédé, car il permet de rincer tout résidu restant sur la surface de la plaquette. Tout excès de liquide est également recueilli et stocké pour réutilisation. Le bras d'épuration est composé de deux composants distincts : l'ensemble brosse et le tampon abrasif. L'ensemble brosse est composé de poils souples qui se déplacent dans des mouvements verticaux rapides pour créer un effet d'épuration agressif. Le tampon abrasif est composé d'un matériau à base de silicone et a une très faible valeur d'abrasion de sorte qu'il n'endommage pas la surface délicate de la plaquette. Le bras d'épuration est relié à un équipement d'E/S qui contrôle la vitesse et la direction du mouvement du bras d'épuration. Ce système est mis en place pour contrôler le fonctionnement afin de nettoyer efficacement la surface de la plaquette sans l'endommager. Le bras de lavage est escamoté lorsque la plaquette a été suffisamment nettoyée, puis les pièces sont déchargées de la chambre. TSK A-CS-100A Wafer & Mask Scrubber est une machine fiable et efficace pour le nettoyage des plaquettes pour la production de semi-conducteurs. La machine est conçue pour fournir des résultats de haute qualité avec des dommages minimes à la surface de la plaquette, permettant un fonctionnement plus fiable du dispositif semi-conducteur. Avec son unité de commande automatisée, la machine peut nettoyer une variété de formations de plaquettes rapidement et efficacement. La machine utilise une puissante machine de lavage, combinée à une source d'activation ultrasonore et à un tampon abrasif, pour éliminer les particules et les oxydes des surfaces des plaquettes, ce qui en fait un outil inestimable dans le processus de production des dispositifs semi-conducteurs.
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