Occasion DISCO DCS 141 #9355561 à vendre en France
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DISCO DCS 141 wafer and mask scrubber est un équipement de nettoyage de précision conçu pour les applications avancées de nettoyage des plaquettes et des masques. Le système est conçu pour les salles blanches et dispose d'un module d'épuration autonome qui est compatible avec divers matériaux d'épuration, y compris l'eau, le solvant et l'ammoniac. Le module d'épuration est équipé d'un bain à température contrôlée et utilise des soupapes à quatre voies équilibrées pour assurer une action d'épuration cohérente. L'unité d'épuration est capable d'épurer jusqu'à 100 plaquettes ou masques en un seul cycle. Le processus d'épuration commence par une douche d'eau désionisée pour éliminer la poussière, la saleté et d'autres contaminants de surface de la surface de la plaquette ou du masque. On procède ensuite à un pré-chêne avec une solution aqueuse pour nettoyer davantage la surface de la plaquette ou du masque. La troisième étape du procédé est le lavage proprement dit, qui se fait à l'aide de différents agents de lavage, spécifiquement choisis en fonction de la plaquette ou du matériau de masque. Le processus d'épuration est complété par un cycle de post-rinçage afin de s'assurer que tout agent d'épuration restant est complètement éliminé. D'autres caractéristiques de la machine comprennent une bande transporteuse à vitesse réglable pour déplacer les plaquettes ou les masques à travers le processus d'épuration, ainsi qu'une interface utilisateur graphique basée sur PC (GUI) pour faciliter la surveillance et le contrôle de l'outil. L'actif comprend également un certain nombre de dispositifs de sécurité conçus pour assurer la sécurité des travailleurs pendant l'exploitation. Ces caractéristiques de sécurité comprennent un verrouillage de sécurité empêchant l'opération d'épuration lorsque le couvercle est ouvert, et des soupapes de surpression pour éviter l'accumulation excessive de pression dans la chambre d'épuration. DISCO DCS141 est conçu pour être utilisé dans des environnements de production à haut volume et est idéal pour les applications de nettoyage des plaquettes et des masques qui nécessitent des résultats précis et reproductibles. La combinaison de la technologie de haute précision et de mesures de sécurité robustes du modèle en fait une solution de nettoyage fiable et efficace qui peut aider à maintenir le plus haut niveau de qualité de wafer ou de masque.
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