Occasion DISCO DFC 1460 #9382805 à vendre en France

DISCO DFC 1460
ID: 9382805
Style Vintage: 2016
Automatic cleaning system 2016 vintage.
DISCO DFC 1460 est une machine de lavage de plaquettes et de masques conçue pour la production de plaquettes de silicium. Il est utilisé pour éliminer les particules microscopiques et la contamination de surface des surfaces des plaquettes et des masques. Cette machine est alimentée par des jets de rinçage haute pression et deux têtes de lavage optimisées pour assurer un nettoyage homogène et continu. Le processus de nettoyage se déroule dans une chambre en acier inoxydable où la plaquette et le masque sont d'abord soumis à un processus de pré-dégagement chimique, puis à un rinçage pré-gommage et enfin à un gommage haute pression. Au cours de ce processus de nettoyage, la chambre est remplie d'eau et traitée chimiquement afin que les particules de surface et les contaminants puissent être facilement éliminés. Les têtes de lavage sont indépendantes du convoyeur, permettant un mouvement de lavage libre, assurant un nettoyage supérieur. Les têtes d'épuration sont optimisées pour offrir des vitesses de nettoyage élevées et des performances de nettoyage fiables sur une longue période de temps. La DFC 1460 possède de nombreuses caractéristiques qui la rendent apte à la production. Sa conception efficace garantit une consommation minimale d'eau et de produits chimiques qui réduit le coût de l'entretien. Son interface conviviale permet une configuration et un fonctionnement faciles. Pour un accès facile aux composants intérieurs, il y a une station de nettoyage intégrée. Pour une meilleure sécurité, la machine est conçue sans contact direct avec les pièces mobiles. L'unité dispose également d'un système d'autodiagnostic qui détecte les défaillances opérationnelles, avertissant les opérateurs de tout problème potentiel. DISCO DFC 1460 est spécialement conçu pour la production de plaquettes et masques très fiables. C'est une machine robuste et fiable pour une variété d'applications de processus de wafer et de masque, y compris la photo-gravure, CMP et le lavage par voie humide. Il fournit un processus de nettoyage propre, doux et efficace qui répond aux normes de qualité les plus élevées.
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