Occasion DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627542 à vendre en France

ID: 293627542
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wafer scrubber, 12" (3) Load ports Controller (3) MFC / Pressure unit Drive mechanism Chamber A and B: Process: Wafer surface clean Chuck: Vacuum chuck Spray: Soft spray N2 10~100NL/min Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ Spin dry: 3,000 rpm Chamber C and D: Process: Wafer backside clean Chuck: Mechanical chuck Brush: PVA Brush Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ Spin dry: 2,400 rpm Multi-chambers system: Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water Gas configuration: Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200 Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30 Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20 Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000 Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200 Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200 Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200 Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000 Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200 Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300 Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30 Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500 Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200 Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10 Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10 Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10 Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10 ATM, EFEM: 4 Wide EFEM type Power supply: 208 AC, 3 Phase 2006 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer and Mask Scrubber est une machine de pointe, fiable et facile à utiliser conçue pour nettoyer les plaquettes et les masques. Cet équipement largement utilisé bénéficie d'opérations de nettoyage des plaquettes et masques de haute précision avec une faible taille de particules. Le mécanisme de nettoyage complet de cet épurateur dispose d'oscillations et de sloshing pour éliminer la contamination par les particules et les produits chimiques résiduels de manière rapide mais douce. Ce système est conçu pour des performances de nettoyage supérieures grâce à une technologie innovante et une ingénierie de pointe. DNS SS-3000-AR a été conçu avec une architecture de nettoyage efficace qui comprend un module d'épurateur de plaquettes et de masques, un épurateur rapide de sloshing, un module d'injection chimique et un épurateur humide. Le module d'épuration des plaquettes et des masques se compose d'un bol, de glissières et d'une brosse. Les curseurs sont motorisés pour laver doucement et doucement les particules de manière contrôlée. La brosse nettoie doucement la saleté et les autres contaminants de la plaquette, compte tenu de sa composition délicate. De plus, le module d'injection chimique injecte précisément la solution de nettoyage dans le bol d'épuration pour réduire efficacement la consommation de produits chimiques. L'épurateur humide élimine ensuite la saleté et la solution chimique une fois le processus d'épuration terminé. En outre, cette unité peut être nettoyée avec une grande variété de solutions de nettoyage, y compris de l'eau désionisée, des alcools isopropyliques et de l'acide chlorhydrique dilué. Le processus de nettoyage proprement dit est dérivé d'une combinaison d'oscillations et de mouvement de fente, ce qui entraîne une efficacité supérieure des opérations de lavage. De plus, cet épurateur permet un nettoyage moléculaire même avec une granulométrie aussi faible que 0,3 μ m. Une autre grande caractéristique est la possibilité de définir un large éventail de paramètres en fonction de l'objectif de nettoyage, y compris les épurateurs, les amplitudes et le temps de pré-épuration. Ceci permet d'utiliser cet épurateur pour différents types de nettoyage avec une grande précision et précision. DAINIPPON SS 3000 AR Wafer and Mask Scrubber est également convivial. Cette machine est équipée d'écrans tactiles LCD intuitifs et de menus faciles à comprendre, faisant du fonctionnement de la machine une brise. L'écran LCD fournit une compréhension complète des progrès de l'épuration et des erreurs potentielles, tout en transmettant rapidement toutes les informations pertinentes. En conclusion, SS-3000-AR Wafer and Mask Scrubber est un outil incroyablement efficace et convivial conçu pour nettoyer les plaquettes et les masques avec une grande précision et précision. Il est équipé d'un large éventail de fonctionnalités pour adapter les paramètres de nettoyage avec minutie, tout en offrant des écrans LCD intuitifs et faciles à utiliser. Avec son mécanisme de nettoyage complet, cet actif sera sûr de fournir des résultats de nettoyage supérieurs dans un court laps de temps.
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