Occasion DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #9355472 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer & Mask Scrubber est un équipement de nettoyage profond fiable et efficace conçu pour la gestion des équipements semi-conducteurs et microélectroniques. Cet épurateur propose des solutions automatiques et manuelles pour enlever les particules, les résidus et la saleté des plaquettes et des masques. L'épurateur est équipé d'un mécanisme avancé d'élimination des particules fines qui le rend capable d'éliminer même les plus petites particules noyées dans les surfaces. L'épurateur est conçu avec de grands réservoirs de travail qui peuvent contenir jusqu'à cinq cassettes de 6 pouces ou 200 morceaux de cassettes de 4 pouces. Pour protéger les plaquettes de tout dommage, l'épurateur est équipé d'un mécanisme porte-doigts qui supporte de façon souple les surfaces de la plaquette et du masque. L'épurateur dispose également d'un filtre à vide à 2 étages et d'une vanne d'alimentation en liquide intégrée pour un nettoyage contrôlé, efficace et sûr des plaquettes. Les mécanismes de fonctionnement de l'épurateur comprennent une brosse motorisée en acier inoxydable qui est spécialement façonnée pour enlever la saleté, les particules et les débris des plaquettes et du masque. L'épurateur dispose également d'un système unique de nettoyage du papier poussiéreux qui élimine les particules ultra-fines des plaquettes et des masques. Il dispose également d'une puissante unité de rinçage centrifuge qui garantit des performances de nettoyage supérieures. L'épurateur est en outre équipé d'une machine de surveillance avancée qui prend en charge le contrôle de processus de haut niveau et la surveillance de divers paramètres. Il permet également de rendre compte en temps réel de l'état du processus et de la qualité du produit. La machine supporte également la connectivité Ethernet pour un contrôle facile de l'équipement. L'épurateur peut être utilisé seul ou intégré à un équipement grâce à une interface de communication étendue. L'épurateur a la capacité maximale de manipuler jusqu'à trois plaquettes/masques par seconde. Il est conçu pour garantir une efficacité, une précision et une fiabilité maximales dans les processus de production de semi-conducteurs et de microélectroniques.