Occasion DNS / DAINIPPON SS-3100 #293810127 à vendre en France

ID: 293810127
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Wafer scrubber, 12" Power box (4) Load ports Wafer type: Notch Main controller Host controller Indexer Transfer robot Reverse unit (4) SSM Spin units (4) SSV Spin units (4) SHINKO SELOP Load ports CO2 Bubbler maker Remote AC Box Handler system: (4) SS Chucks (4) SSR Chucks Indexer robot Transfer robot Reverser Process chambers: SC1 CO2 Water Rinse / Spin dryer Process: Brush DI Water filter (3) Nozzles: Spray, rinse, back rinse SSV: Vacuum chuck (5) Nozzles: Back side rinse, SC1, Spray1, Brush1, Brush2 SSM: Magnetic chuck (4) Nozzles: Back side rinse, SC1, Spray1, Brush1 Power supply: 208 V, 60 Hz 2012 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3100 Wafer & Mask Scrubber est un nouvel outil d'épuration révolutionnaire, conçu pour l'optique de niveau avancé et l'emballage semi-conducteur. Cet épurateur de pointe offre une combinaison unique de techniques de nettoyage avancé, de focalisation à haute énergie et de dispersion supercritique des fluides qui permettent un nettoyage complet et efficace des composants optiques sensibles, ainsi que des circuits intégrés. L'épurateur DNS SS-3100 utilise un vide contrôlé spécial à trois modes pour éliminer efficacement la poussière, les particules et les imperfections de surface sur tout type de substrat ou de plaque de masque. Le vide du laveur est conçu pour s'adapter facilement aux différentes tailles et formes des substrats et créer un environnement de lavage optimal. De plus, le laveur est capable d'éliminer efficacement tous les types de contaminants, y compris l'huile, la soudure et d'autres résidus industriels, pour vous donner les résultats les plus propres. Avec l'épurateur DAINIPPON SS 3100, les utilisateurs peuvent facilement nettoyer les masques et plaquettes sensibles, tels que le silicium et les TFT, pour un meilleur contrôle de la qualité dans l'industrie des semi-conducteurs. L'épurateur DNS SS 3100 est équipé d'un système de focalisation à haute énergie pour assurer une efficacité maximale pendant le processus de nettoyage. Ce système réduit efficacement les niveaux de contamination par le fluor et les sulfates pour améliorer la douceur de surface des semi-conducteurs et diminue la contamination par les polymères et les adhésifs. En outre, il contrôle efficacement le processus d'amincissement des couches pour le nettoyage précis des couches minces. Grâce à sa technologie de dispersion de fluide supercritique, le laveur SS 3100 est capable d'éliminer les contaminants indésirables avec une vitesse de jet supersonique élevée. En créant un mélange air/gaz liquide, l'épurateur produit une solution de nettoyage extrêmement concentrée qui est capable de s'attaquer efficacement à une grande variété de problèmes de surface. Grâce à cette technologie, le nettoyeur peut non seulement nettoyer les surfaces des substrats et des masques, mais aussi les examiner avec une grande précision. Dans l'ensemble, le DNS/DAINIPPON SS 3100 est un dispositif exceptionnel de nettoyage des plaquettes et des masques qui offre des fonctions de nettoyage avancées et une dispersion critique des fluides. Cet épurateur est idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs et assure une efficacité maximale dans le processus de nettoyage. En outre, il est également en mesure d'examiner attentivement les résultats du nettoyage de surface, ce qui en fait un excellent choix pour les entreprises de haute performance et soucieuses de la qualité.
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