Occasion DNS / DAINIPPON SS-W60A-A #9306100 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SS-W60A-A wafer & mask scrubber est une station humide entièrement automatisée conçue pour le nettoyage et l'épuration des dispositifs semi-conducteurs et des masques. C'est un excellent choix pour l'épuration ultra-propre des substrats et masques à motifs, avec des niveaux élevés de propreté, de répétabilité et d'épuration sans contact. La station d'épuration est équipée d'un équipement d'épuration au niveau de l'appareil, avec un contrôle ultra-haute précision. Le système d'épuration consiste en un bras d'épuration avec une tête d'épuration intégrée, un réservoir de solution d'épuration embarqué et une technologie de commande de positionnement relatif (RRPC) pour assurer une couverture complète d'épuration de l'ensemble du dispositif ou du masque. La solution d'épuration est injectée à très haute pression par une vanne à quartz à temps précis pour assurer un épuration uniforme. Pour aider à réduire encore les particules, le poste d'épuration est équipé d'une unité de dépoussiérage, qui élimine les particules véhiculées par l'air avant qu'elles n'entrent en contact avec le dispositif ou le masque. Le poste d'épuration comporte également un décontaminant ultraviolet, qui inactive toute contamination résiduelle sur la plaquette ou le masque. La station d'épuration des plaquettes et des masques est très fiable et conviviale, avec un simple fonctionnement à un bouton. La station dispose également d'une machine d'audit intégrée, qui enregistre l'historique de lavage de chaque plaquette ou masque, et recueille des données sur la façon dont il a été nettoyé. Cela permet une analyse détaillée des conditions et des tendances de l'épuration. Dans l'ensemble, DNS SS-W60A-A wafer & mask scrubber fournit une excellente plate-forme pour l'épuration ultra-propre des wafers et masques. Il est extrêmement fiable et convivial, avec des niveaux élevés de propreté, de répétabilité, de dépoussiérage et de décontamination aux ultraviolets. Ce dispositif offre d'excellentes performances d'épuration, assurant la couverture précise et complète de chaque appareil ou masque.