Occasion DNS / DAINIPPON SS-W80A-AR #9149127 à vendre en France

ID: 9149127
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Scrubber, 8" (2) Front side scrubbing units (2) Back side scrubbing units Reverse unit Transformer 2001 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-W80A-AR Wafer & Mask Scrubber est un équipement de nettoyage automatisé très compact spécialement conçu pour le nettoyage des photomasques à semi-conducteurs. Ce système est composé de trois modules d'épuration : l'épurateur à plaquettes, l'épurateur à masque et le préessoreur. Le module d'épurateur de plaquettes est constitué d'une unité de transport universelle qui supporte jusqu'à huit cassettes de plaquettes de 6 pouces. La machine est équipée d'un rotateur automatique de plaquettes à 3 axes et haute résolution qui est capable de faire tourner une variété de tailles de plaquettes, y compris des réticules jusqu'à 200mm de diamètre. La plaquette est ensuite pulvérisée et épurée avec une solution détergente pour assurer un nettoyage complet, suivi d'un rinçage à haute pression. Le module d'épuration du masque est conçu pour le nettoyage des masques à bronzage liquide et est composé d'un bras mécanique robotique à trois axes, qui est automatiquement positionné à un angle d'épuration optimal. Cela garantit que tous les défauts de surface sont effectivement retirés du masque. Le masque est ensuite pulvérisé et épuré par une solution détergente, suivie d'un rinçage à haute pression. Le module de pré-séchage est un outil de séchage par plaque chaude qui assure l'étanchéité de tout gaz résiduel du lavage de la plaquette et du masque en raison de la température de surface élevée. L'actif est constitué d'un dispositif de chauffage électrique capable d'atteindre une température maximale de 800 ° C et d'un modèle de détection de signaux permettant de détecter les variations thermiques et de tension de la plaque chauffante. L'équipement est également équipé de minuteries de température à deux étages qui permettent un contrôle précis du cycle de séchage. DNS SSW80A-AR est conçu comme un système de nettoyage efficace pour les photomasques semi-conducteurs. Sa conception modulaire garantit que les trois modules d'épuration peuvent être utilisés simultanément, ce qui permet de nettoyer très efficacement jusqu'à huit plaquettes de 6 pouces et jusqu'à soixante masques en un seul processus. De plus, son sécheur à plaque chaude assure qu'aucun gaz résiduel n'est laissé à la surface des plaquettes et des masques, ce qui permet un traitement des matériaux très fiable.
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