Occasion DNS / DAINIPPON SSW-629-B #293608924 à vendre en France

DNS/DAINIPPON SSW-629-B Wafer & Mask Scrubber est une solution automatisée pour l'élimination des particules des substrats semi-conducteurs et de l'optique lithographique. Ce dispositif est conçu pour des applications de nettoyage des particules, telles que les substrats bas-k ou Cu, pour les procédés de pulvérisation latéraux et frontaux. L'équipement se compose d'un chargeur/déchargeur de cassettes, d'un ordinateur central contenant un contrôleur MFC et des composants de la machine, et d'une série de brosses d'épuration. Chaque brosse d'épuration est composée d'une broche tournante sur mesure, qui est fixée à un entraînement motorisé programmable. Le processus d'épuration est actionné par un système de palier à air asservi, qui permet à la brosse de se déplacer de façon synchrone avec l'axe tournant, sans frottement entre les deux composants. L'unité asservie assure une pression d'épuration uniforme sur la surface de la plaquette et peut être ajustée finement pour obtenir les résultats souhaités. Le processus d'épuration est piloté par un programme contrôlé par microprocesseur, qui permet d'ajuster avec précision les vitesses de brosse et de broche. Cela permet aux opérateurs d'effectuer des opérations d'épuration très ciblées avec un maximum d'efficacité, assurant une élimination uniforme des particules sur la plaquette. L'épurateur est également équipé d'un laser de 30 watts équipé de fonctions de focalisation automatique et de réglage de la puissance. Cela permet des réglages très précis pour des performances de nettoyage optimales. Le DNS SSW-629B est conçu avec une enceinte de type cabine afin de maximiser la sécurité de l'opérateur et de réduire la contamination aérienne. L'intérieur de l'épurateur contient une puissante machine d'extraction des fumées qui délivre de l'air frais de l'extérieur de l'épurateur, empêchant la recirculation de l'air et réduisant toute exposition à des particules dangereuses. L'épurateur comprend également une unité de commande qui permet un contrôle commode du dispositif. Cela inclut la possibilité de programmer les réglages de l'épurateur avec des journaux d'opération, d'ajuster la vitesse et la direction de l'épurateur, et de surveiller le processus d'épuration à tout moment. L'unité de contrôle dispose également d'un écran LCD intuitif, ce qui facilite la surveillance de l'état de l'épurateur et les ajustements nécessaires. DAINIPPON SSW 629B est un épurateur de wafer et de masque avancé qui est conçu pour réduire les risques associés à la contamination des particules et pour maximiser l'efficacité des processus d'épuration. Associé à ses caractéristiques de pointe telles que son outil de palier à air asservi et son laser puissant et réglable, l'épurateur offre une solution efficace, fiable et sûre pour l'élimination des particules des substrats semi-conducteurs et de l'optique lithographique.