Occasion HUGLE HS-1010 #9099938 à vendre en France

HUGLE HS-1010 wafer and mask scrubber est conçu pour éliminer efficacement et efficacement les contaminants des photomasques et des wafers utilisés dans les industries des semi-conducteurs, de l'électronique et de l'optoélectronique. Ce dispositif fonctionne en utilisant des têtes de lavage très efficaces pour nettoyer doucement, mais soigneusement la surface des masques et des plaquettes. Il est efficace et facile à utiliser, offrant une excellente propreté de surface pour tous les produits. HS-1010 utilise deux têtes de lavage. La première tête est composée de soies souples conçues pour éliminer les particules et les contaminants des surfaces du masque ou de la plaquette sans laisser de rayures ou autres dommages. La deuxième tête est conçue pour appliquer des solvants (généralement de l'alcool isopropylique) à la surface, dissoudre et solides contaminants tout en facilitant le processus de nettoyage. HUGLE HS-1010 offre trois vitesses (haute, moyenne et basse), permettant à l'opérateur de choisir la vitesse la plus appropriée pour le processus de nettoyage spécifique. La vitesse élevée est mieux utilisée pour enlever les débris tenaces, tandis que les vitesses plus faibles peuvent être choisies pour nettoyer doucement les surfaces délicates. Ce dispositif est également équipé d'une fonction de temps réglable, permettant à l'opérateur de choisir le temps de lavage optimal. Cela garantit un équilibre parfait entre la puissance de nettoyage et l'évitement du sureffectif. HS-1010 est également équipé d'un cycle de fonctionnement entièrement automatique, éliminant la nécessité pour l'opérateur de contrôler manuellement le processus. Cette fonction active et éteint automatiquement l'appareil et règle les réglages de vitesse et de temps appropriés, garantissant ainsi la meilleure propreté possible. HUGLE HS-1010 est conçu pour optimiser la productivité en salle blanche. Il est léger et facile à déplacer dans la pièce, et dispose d'une opération à faible bruit, offrant un environnement de travail propre et confortable. En résumé, HS-1010 wafer and mask scrubber est un dispositif très efficace et fiable pour le nettoyage des photomasques et des wafers utilisés dans les industries des semi-conducteurs, de l'électronique et de l'optoélectronique. Ce dispositif offre différents modes de nettoyage, des réglages horaires réglables et des cycles de fonctionnement automatique, permettant à l'utilisateur de choisir la vitesse et le temps appropriés pour obtenir la meilleure propreté de surface. Sa conception légère et à faible bruit le rend idéal pour une utilisation en salle blanche, permettant un nettoyage rapide et facile avec une perturbation minimale des autres activités.