Occasion JELIGHT 342-320 #9185372 à vendre en France

JELIGHT 342-320
ID: 9185372
UVO Cleaner.
JELIGHT 342-320 est un épurateur à wafer et masque utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour nettoyer et éliminer les particules de la surface des plaquettes de silicium et des photomasques utilisés dans la fabrication de composants de circuits intégrés. L'épurateur utilise une combinaison d'air filtré basse pression et de têtes de pinceaux pneumatiques pour réaliser un nettoyage complet des surfaces des plaquettes et des photomasques. L'épurateur est actionné manuellement par une interface utilisateur qui vous permet de régler les paramètres d'épuration tels que la pression d'air et le débit d'air, ainsi que le type de tête de brosse et la vitesse de la brosse. L'épurateur dispose également d'un ordinateur de bord qui surveille le processus d'épuration, s'assurant que tous les paramètres sont respectés. Cela assure un épuration uniforme et propre des surfaces de la plaquette et des photomasques. Les avantages de l'épurateur 342-320 sont sa capacité à éliminer les particules des surfaces de la plaquette et des photomasques avec un risque minimal d'endommagement, grâce à sa basse pression, son air filtré et ses têtes de pinceaux pneumatiques. L'épurateur est également facile à utiliser et offre des résultats toujours propres. De plus, la conception de l'épurateur est compacte, ce qui la rend idéale pour une utilisation dans des installations de fabrication surpeuplées. L'épurateur utilise un système à double flux unique avec un débit d'épurateur haute pression et un débit de processus basse pression. Ce système à double flux est conçu pour assurer un épuration uniforme des surfaces de la plaquette et des photomasques sans causer de rayures ou de dommages. L'épurateur dispose également de vitesses de lame réglables, ce qui le rend adapté à une large gamme d'applications. Dans l'ensemble, le JELIGHT 342-320 est une plaquette et un épurateur photomasque efficace qui est facile à utiliser, produit des résultats cohérents et a une conception peu encombrante. Il est idéal pour une utilisation dans la fabrication de semi-conducteurs, car il est basse pression, a des vitesses de brosse réglables, et son système à double flux assure un épuration complet et même des surfaces de plaquettes et de photomasques.
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