Occasion K&S 971 #9195855 à vendre en France

K&S 971 wafer & mask scrubber est un scrubber polyvalent compact, léger et puissant utilisé dans le nettoyage des wafers et des masques photorésistants. Il est conçu pour l'épuration chimique humide et sèche des masques simples ou multiples, y compris l'aluminium, le quartz et le verre. L'épurateur 971 est un équipement fiable pour le nettoyage des plaquettes et l'élimination des photorésistances, des résidus organiques, des oxydes et d'autres contaminations de surface dans le processus de photolithographie. K&S 971 wafer & mask scrubber a deux modes disponibles ; Mode Scrub normal et mode Deep Scrub. En mode Normal Scrub, la tête de gommage oscille côte à côte tandis qu'une légère force d'épuration est appliquée à la surface de la plaquette, permettant une action de nettoyage fiable et cohérente. Pour un matériau plus persistant, le mode Deep Scrub applique une gamme de mouvements d'épuration agressifs pour éliminer rapidement le résidu sans endommager la surface. 971 est compatible avec une variété de solutions de bain. Le bain réglable permet des solutions de nettoyage personnalisées qui peuvent cibler différents matériaux avec la bonne concentration de produits chimiques. De plus, la chambre d'épuration séparée empêche les contaminants d'entrer dans le bain et évite toute interaction chimique avec la plaquette lors de l'épuration. K&S 971 offre une gamme de paramètres de fonctionnement pour une performance de lavage plus adaptée, comme la vitesse de lavage, la profondeur d'oscillation et la durée globale du cycle de lavage. De plus, 971 dispose d'un système de diagnostic intégré qui surveille les performances de l'épurateur et les cycles de maintenance des pistes. Le système fournit une rétroaction diagnostique pour aider à améliorer les performances d'épuration. K&S 971 wafer and mask scrubber est le scrubber le plus efficace et le plus fiable pour le processus de wafer et de photolithographie. Sa flexibilité et sa fonctionnalité diagnostique la placent comme le choix privilégié dans l'industrie des semi-conducteurs, permettant la production de wafer et de produits de photolithographie de haute qualité.