Occasion LAM RESEARCH DSS 200 #9392384 à vendre en France
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LAM RESEARCH DSS 200 est un laveur automatisé de plaquettes et de masques conçu pour les applications de traitement de semi-conducteurs. Il est utilisé pour le nettoyage des plaquettes et des réticules en éliminant la contamination par les particules de surface des plaquettes et des masques. LAM RESEARCH ONTRAK DSS 200 comprend une chambre scellée qui utilise de l'air filtré pour réduire les contaminants atmosphériques. Il utilise un système d'épuration, qui utilise une roue à deux pales à un étage pour dissoudre les contaminants particulaires. Les plaquettes et masques sont placés sur une broche rotative de lavage qui est indexée séquentiellement pour chaque plaquette et réticule, assurant ainsi un nettoyage approfondi. DSS 200 fonctionne sur 110V AC, consomme jusqu'à 500 watts de puissance et a une capacité de charge allant jusqu'à 40 plaquettes et masques. La chambre de gommage mesure 17 "W x 21" D x 18 "H, avec un rayon de gommage de 2 pouces et 80 degrés d'angle de suspension de la plaquette pour un gommage uniforme. Comme mesure supplémentaire de contrôle du processus, la pression d'épuration peut être réglable entre 0,5 et 5 psi pression d'air. Une fois que les plaquettes et les réticules sont chargés dans la chambre de gommage, un contrôleur programmable prend en charge le processus de gommage. Le cycle de nettoyage global comprend généralement les étapes pré-humide, épuration, post-humide et séchage. L'énergie ultrasonique est associée à l'air de lavage pour aider à dissoudre les contaminants. Une fois nettoyées, les plaquettes et les masques sont passés dans une chambre de séchage chauffée, où l'air est recirculé et épuisé pour éliminer l'humidité. En résumé, ONTRAK DSS 200 est un système d'épuration automatisé conçu pour nettoyer les plaquettes et les masques dans les applications de traitement des semi-conducteurs. Il utilise un système d'épuration, une turbine monoplace à deux pales, un contrôleur programmable et une chambre de séchage chauffée, le tout supporté par de l'air filtré dans une chambre étanche. La pression d'épuration, les paramètres du cycle et le contrôle des gaz d'échappement peuvent tous être ajustés afin d'obtenir un contrôle maximal du processus et des résultats de nettoyage fiables.
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