Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Series II #9412623 à vendre en France

LAM RESEARCH/ONTRAK Series II Wafer and Mask Scrubber est un système avancé et automatisé conçu pour nettoyer et désinfecter les masques et les plaquettes de lithographie à grande échelle. Cet épurateur utilise une robotique de pointe et une technologie avancée de reconnaissance d'image pour analyser et traiter différentes caractéristiques des masques et des plaquettes, notamment : topographie de surface, caractéristiques structurées et caractéristiques structurées. Le processus commence par le scrubber balayant des éléments optiques spéciaux au-dessus de la plaquette ou du masque pour détecter les imperfections. Une fois détecté, le dispositif utilise alors un procédé automatisé de « brossage » pour appliquer un flux haute pression d'une solution de nettoyage à la surface de la plaquette ou du masque. L'épurateur utilise alors sa technologie de reconnaissance d'image pour détecter les contaminants résiduels et répéter le processus de nettoyage jusqu'à ce qu'un résultat sans contamination soit atteint. ONTRAK Series II Wafer and Mask Scrubber offre des performances supérieures à celles des autres épurateurs professionnels grâce à ses technologies avancées de robotique et de reconnaissance d'image. L'épurateur offre également la commodité aux professionnels car il est conçu avec un petit facteur de forme portable, ce qui le rend plus facile à transporter et à utiliser dans différents endroits. Le scrubber est équipé d'une interface utilisateur graphique intuitive, rendant les opérations faciles à comprendre et à configurer. En outre, le scrubber est capable de stocker jusqu'à 8 méthodes de nettoyage programmables par l'utilisateur pour différents processus de lithographie, permettant aux utilisateurs de passer entre différentes recettes de manière transparente. Les capacités de réseautage avancées de l'appareil permettent également aux utilisateurs de surveiller le fonctionnement en plusieurs endroits. LAM RESEARCH Series II Wafer and Mask Scrubber est un outil incontournable pour les lithographes professionnels et les fabricants de semi-conducteurs. Ses capacités robustes de reconnaissance d'images et son processus de nettoyage automatisé permettent au nettoyeur de nettoyer et de désinfecter efficacement les masques et les plaquettes avec un minimum d'effort et de temps. En outre, le petit facteur de forme de l'appareil et l'interface facile à utiliser rendent le fonctionnement rapide et efficace, tandis que ses capacités de réseau, et les programmes de nettoyage stockés, permettent aux utilisateurs d'accéder et de gérer les opérations à distance. Si vous êtes à la recherche d'un épurateur avancé et efficace pour les processus de lithographie à grande échelle, Wafer et Mask Scrubber Série II est le choix parfait.