Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #293587490 à vendre en France

LAM RESEARCH/ONTRAK Synergy est un épurateur de plaquettes et de masques conçu pour l'élimination des particules de la surface des plaquettes semi-conductrices et des photomasques utilisés pour créer des contours de circuits intégrés. L'équipement intègre deux technologies éprouvées de lavage, ONTRAK scrubber et LAM RESEARCH Robotic Wafer Scrubber, pour offrir des performances de lavage inégalées avec une seule plate-forme. LAM RESEARCH/ONTRAK scrubber utilise une brosse de filage à grande vitesse, qui est parfaite pour éliminer les particules têtues et les petits défauts à la surface de la plaquette ou de la photomasque. La brosse est alimentée par une solution de lisier en rotation qui est pulvérisée sur la surface et s'écoule avec les débris. Les particules et les débris sont efficacement engloutis et retirés de la surface avec le lisier. Cette technologie est plus efficace pour éliminer les particules plus petites et les résidus qui sont difficiles à éliminer avec des systèmes d'épuration des plaquettes sèches ou des masques. ONTRAK wafer scrubber est un système robotisé qui fournit une force et un mouvement d'épuration contrôlés et uniformes. Ce type d'unité est nécessaire pour éliminer les contaminants des applications d'épuration des grands panneaux, et est également idéal pour l'épuration par lots des plaquettes de production. Il utilise des moteurs sans brosse qui génèrent un mouvement oscillatoire des brosses pour le lavage latéral avant de plaquettes et de photomasques, contrôlé par un bras de lavage robotique. Le mouvement de brossage est conçu pour balayer efficacement la surface de manière cohérente et efficace, ce qui se traduit par moins de temps passé à nettoyer et à améliorer l'élimination des particules. La combinaison de ces deux technologies dans la machine ONTRAK Synergy est efficace pour nettoyer les surfaces des plaquettes et des photomasques avec un déplacement minimal de celles-ci ou les caractéristiques de la surface, tout en assurant une élimination maximale de la surface des particules. Il est particulièrement adapté pour les applications où des taux élevés de particules, des caractéristiques critiques ou des densités de lignes élevées doivent être maintenus. Cet outil de lavage avancé est idéal pour ceux qui travaillent dans la fabrication de plaquettes semi-conductrices et de photomasques.