Occasion LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #293606441 à vendre en France

LAM RESEARCH/ONTRAK Synergy est un laveur de plaquettes et de masques, un dispositif utilisé pour traiter des plaquettes semi-conductrices délicates. Il a été spécialement développé et conçu pour nettoyer la surface des plaquettes et des masques destinés aux équipements de fabrication de semi-conducteurs, tels que les systèmes de lithographie. L'épurateur est conçu pour éliminer la contamination de surface des plaquettes et des masques, en éliminant les particules qui peuvent causer des défauts et une perte de rendement lorsqu'ils sont utilisés dans le cadre du processus de photolithographie. L'épurateur est composé de deux composants principaux, l'épurateur et la chambre d'épurateur. L'épurateur est un dispositif non destructif, tandis que l'épurateur comporte une chambre de nettoyage ainsi qu'une chambre de chloration. L'épurateur est composé de deux disques anti-rotation, d'un ensemble d'amortisseurs de vibrations et d'un ventilateur d'échappement pour sécher les plaquettes et les masques en cours de traitement. Les disques de gommage sont conçus pour éliminer les particules de la surface des plaquettes, tandis que les amortisseurs de vibrations réduisent les risques d'écaillage ou de fissuration du matériau sensible pendant le processus de gommage. La chambre d'épuration est composée d'une chambre de procédé principale, d'une chambre de rinçage et d'une chambre de nettoyage du masque. La chambre de traitement principale est conçue pour nettoyer et polir la surface de la plaquette, et est équipée d'un système d'échappement qui évacue les effluents du processus d'épuration. La chambre de rinçage est conçue pour le nettoyage final et le rinçage des plaquettes, ce qui permet des performances de nettoyage fiables et cohérentes. Enfin, la chambre de nettoyage du masque est utilisée pour nettoyer les masques avec un procédé sans pression, fournissant de meilleurs résultats de nettoyage avec moins de risques d'endommagement des masques. En outre, l'épurateur présente des caractéristiques qui permettent de collecter et de recycler facilement les eaux résiduaires générées pendant le processus d'épuration. Il est également équipé d'un système de vide avancé qui utilise un filtre de puissance pour éliminer les particules des surfaces de la plaquette avant le séchage. De plus, la conception de l'épurateur est telle qu'il est capable de fonctionner sans changement d'outil, améliorant le débit et réduisant les temps d'arrêt. L'épurateur peut supporter une large gamme de tailles de plaquettes et utilise une conception éprouvée de disque épurateur pour l'élimination optimale de la contamination des surfaces des plaquettes. Globalement, ONTRAK Synergy wafer and mask scrubber fournit une solution fiable et rentable pour les applications de traitement des semi-conducteurs. Sa conception et ses caractéristiques avancées améliorent les performances de nettoyage des plaquettes et des masques, ainsi que la sécurité des utilisateurs. En outre, sa capacité à collecter et recycler facilement les eaux usées et son système de filtrage efficace offrent une protection fiable contre la contamination par sous-réparation et la perte de rendement, ce qui en fait une solution efficace pour les fabriques de semi-conducteurs.