Occasion O+R ISO 8 #293807468 à vendre en France
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ID: 293807468
Style Vintage: 2019
Cleaning systems
Flow Rate: 2300-2700 m³/h
(3) Ventilation systems: 900 m³/h
2019 vintage.
L'épurateur de plaquettes et de masques O + R O + R ISO 8 est un outil essentiel dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs, spécialement conçu pour nettoyer et préparer les plaquettes et les masques pour d'autres étapes de production. Cet équipement de pointe utilise une technologie de pointe pour fournir un épuration fiable et efficace, assurant le plus haut niveau de propreté et de qualité dans la fabrication de semi-conducteurs. L'épurateur O + R ISO 8 dispose d'une construction robuste avec une empreinte compacte, ce qui le rend adapté à une utilisation en salle blanche où l'espace est limité. Le système est équipé de puissants mécanismes d'épuration qui peuvent efficacement éliminer les contaminants, les particules et les résidus des plaquettes et des masques, assurant une performance et un rendement optimaux dans la fabrication des semi-conducteurs. L'un des composants clés de l'épurateur O + R O + R ISO 8 est son unité de contrôle de précision, qui permet aux utilisateurs d'ajuster et d'optimiser les processus de nettoyage en fonction des exigences spécifiques. Ce niveau de contrôle garantit des résultats cohérents et reproductibles, conduisant à une amélioration de la productivité et à une réduction des coûts de fabrication. Le laveur est équipé de systèmes avancés de distribution de fluide qui permettent la distribution précise de solutions de nettoyage, assurant une couverture complète et uniforme des plaquettes et des masques pendant le processus de lavage. Cette caractéristique est essentielle pour atteindre des niveaux élevés de propreté et prévenir la contamination croisée dans la fabrication de semi-conducteurs. En outre, l'épurateur O + R ISO 8 intègre des mécanismes de séchage innovants qui aident à éliminer les taches d'eau et les résidus des plaquettes et des masques après le processus de nettoyage. Cela garantit que les surfaces sont sèches et exemptes de contaminants, prêtes pour les étapes de traitement ultérieures sans risque de dégradation des performances O + R. La machine est conçue pour être conviviale et facile à entretenir, avec des contrôles intuitifs et des interfaces qui facilitent le fonctionnement et la surveillance des processus de nettoyage. Cela permet aux fabricants de semi-conducteurs d'intégrer efficacement l'épurateur dans leurs lignes de production et d'obtenir des résultats cohérents avec un minimum de temps d'arrêt. En outre, l'épurateur O + R O + R ISO 8 est conçu avec des dispositifs de sécurité pour protéger les opérateurs et prévenir la contamination des plaquettes et des masques lors des processus de nettoyage. L'outil est équipé de capteurs et d'alarmes qui alertent les utilisateurs sur tout problème potentiel d'anomalies O + R, garantissant un haut niveau de fiabilité et de contrôle des processus. Dans l'ensemble, l'épurateur de wafer et de masque O + R ISO 8 est un outil polyvalent et fiable pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant des capacités de nettoyage avancées et un contrôle précis pour répondre aux exigences exigeantes des procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs. Avec sa construction robuste, sa technologie de pointe et sa conception conviviale, l'épurateur est un atout essentiel pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des rendements, une qualité et une productivité élevées dans leurs processus de production.
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