Occasion RISHUO ENTERPRISE C2010-01 #293642040 à vendre en France

RISHUO ENTERPRISE C2010-01 est un épurateur avancé conçu pour nettoyer les substrats semi-conducteurs fragiles et les photomasques complexes. Cette machine est capable de travailler avec une gamme de tailles de particules, permettant aux opérateurs d'éliminer facilement les défauts, les contaminants, de résister aux résidus et autres types de particules indésirables sans endommager les plaquettes et masques sensibles. La machine est équipée d'un système d'absorption du vide et d'un système innovant de filtration des brosses d'épuration. Cela aide à maintenir l'efficacité du processus de nettoyage et à éviter le risque de contamination due à la contamination croisée et à la contamination de l'air. Les brosses d'épuration sont conçues pour aider à assurer un épuration uniforme et uniforme qui ne cause aucun dommage. C2010-01 est également équipé d'un réservoir d'eau et de solution de nettoyage qui est capable de répondre à une variété de conditions de fonctionnement différentes. Ce réservoir peut également être régulé en température et permettre des opérations de nettoyage plus sensibles si nécessaire. La machine est capable de nettoyer tous les métaux, les résidus de photorésist organique (RPO) et les résidus de photorésist sec sans dommages. En outre, il peut être utilisé pour éliminer les contaminants, y compris les ions, la poussière, le siloxane et les particules de YAG, entre autres, sans laisser de résidus indésirables. RISHUO ENTERPRISE C2010-01 dispose également d'un cycle de lavage de routine automatisé haut de gamme qui permet aux opérateurs de programmer des processus de nettoyage et de masquage automatiques, offrant une plus grande efficacité et réduisant le risque d'erreur humaine. En outre, la machine dispose également de capteurs laser intégrés pour fournir rapidement des données de plaquettes précises et fiables sans erreurs. Cela permet aux opérateurs d'avoir un meilleur contrôle sur le processus de nettoyage et contribue à éviter l'exposition inutile de particules nocives à la plaquette ou au masque. Enfin, C2010-01 a une construction robuste et est livré avec une variété de composants différents, tels que les brosses, solvants, détergents et huiles de viscosité, pour différents types de nettoyage et de substrat. En outre, la machine est livrée avec un plan d'entretien complet et une garantie de service, qui garantit des performances cohérentes et fiables dans le temps. En résumé, RISHUO ENTERPRISE C2010-01 est un épurateur de wafer et de masque avancé qui possède une large gamme de caractéristiques et de capacités pour donner aux opérateurs un meilleur contrôle, une efficacité de nettoyage et une garantie d'entretien fiable. Cette machine est une solution idéale pour tous ceux qui ont besoin de nettoyer à la fois des substrats semi-conducteurs délicats et des photomasques complexes.