Occasion RUDOLPH FE VII/IV #9398260 à vendre en France

RUDOLPH FE VII/IV
ID: 9398260
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
Film thickness measurement system, 8" 2002 vintage.
RUDOLPH FE VII/IV est un épurateur à plaquettes et masques utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. L'appareil est alimenté par quatre moteurs indépendants qui contrôlent ses capacités d'épuration, de surveillance et d'assainissement. Le processus d'épuration est conçu pour aider à réduire la quantité de contamination sur le substrat pendant le processus de fabrication. Elle utilise une technologie de bras rotatif en attente de brevet pour faire tourner des têtes de lavage sur toute la surface du substrat. La fonction de surveillance permet aux opérateurs d'observer l'état des bras d'épuration et d'effectuer facilement des ajustements tandis que la fonction d'assainissement permet d'assurer la plus grande propreté du substrat. Le FE VII/IV est capable d'épurer des plaquettes jusqu'à 18 po de diamètre et 1,36 po d'épaisseur. Le processus d'épuration est de pointe, utilisant du carbure durci et des brosses à poils souples pour nettoyer les particules de la surface du substrat. Ces brosses tournantes travaillent à pénétrer dur pour atteindre des zones qui peuvent ne pas être facilement visibles avec l'épuration manuelle. Le processus d'épuration peut également être programmé et personnalisé en fonction des exigences spécifiques du processus. Le FE VII/IV est également équipé d'un système de vide de 1000 watts pour recueillir toutes les particules épurées du substrat. Ce système de vide permet de réduire les particules en suspension dans l'air à partir de l'environnement environnant, améliorant à la fois l'efficacité et la propreté de la surface du substrat. Les autres caractéristiques de la FE VII/IV comprennent un corps compact et l'efficacité énergétique. Le corps compact permet une installation facile en place et nécessite un minimum d'espace dans une installation. Le dispositif fonctionne également sur seulement 12V DC, réduisant la consommation d'énergie d'autres solutions de lavage. RUDOLPH FE VII/IV wafer and mask scrubber est une solution efficace pour maintenir les substrats propres pendant le processus de fabrication des semi-conducteurs. Les bras tournants d'épuration, les capacités de surveillance et d'assainissement et l'efficacité énergétique en font une solution haut de gamme pour toute installation de fabrication.
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