Occasion SCHMID 352 #9124716 à vendre en France

Fabricant
SCHMID
Modèle
352
ID: 9124716
Style Vintage: 2009
Phosphor doper Wafer thickness: 200 μm to 320 μm Capacity: 3600 Cells / h at wafer 125 x 125 mm (1.5 M/min feed) Ambient temperature: 20 - 24°C ± 2°C Humidity: 48% to 54 % ± 2 % Phosphoric acid Concentration approx: 27% Mixing ratio: 1:3 With 85% acid Consumption approx: 0.4 l/h Temperature: 34°C ± 1°C (Internal regulation) Content vaporizer approx: 3 l Content supply tank: 50 l Water inlet belt cleaner: DI water Conductance: 1 μS Temperature: 20°C ± 3°C Consumption: 380 l/h at 2 bar inlet pressure Inlet pressure: < 4 Bar Working pressure: 3 Bar Cooling water: Infeed temperature max: 17°C Consumption: >300 l/h Inlet pressure max: 5 Bar Pneumatic: Inlet pressure: 6 to 10 bar Working pressure: 6 Bar Pollution: Drying Oil free Maximum: 5 μm / 5 mg/m3 Suction Working pressure: 0.5 Bar Connection dimension: 90 mm Exhaust air approx: 100 m3/h Power supply: 3-Stages /N/PE, 400 VAC, 50 Hz, 24 VDC, 8 A / Stage, 5.5 kW 2009 vintage.
SCHMID 352 wafer & mask scrubber est un outil polyvalent et très efficace conçu pour répondre aux besoins des services de traitement des semi-conducteurs performants. Ce wafer & mask scrubber utilise la dernière technologie de scrubbing pour fournir des résultats rapides, précis et fiables. Il est capable d'épurer les diamètres des plaquettes jusqu'à 152 mm et les diamètres des masques jusqu'à 350 mm. 352 fournit une gamme complète de mouvements, permettant l'épuration des structures complexes. Le mouvement de rotation, le réglage vertical et la vitesse de lavage réglable peuvent tous être utilisés pour optimiser les performances de lavage. Cette flexibilité est utile pour différentes tâches d'épuration comme le nettoyage des couches épaisses de photorésist et l'élimination des particules sans endommager les structures délicates. Ce wafer & mask scrubber est équipé de deux moteurs SCR puissants et dispose d'un contrôle réglable de la pression et de l'épuration. Cela garantit que tout le processus d'épuration est à la fois rapide et efficace. Sa construction robuste et son effet de trempe aident à maintenir les plus hauts niveaux de propreté et de précision. Le SCHMID 352 est équipé d'un bras d'évacuation spécial et d'une brosse en poil double face brevetée pour permettre un lavage intensif des structures même maladroites. Cela se fait sans nettoyage manuel de la brosse, améliorant ainsi la vitesse et la sécurité du processus. Ce laveur de plaquettes et masques est capable de fonctionner dans une large gamme de températures, de 14 à 44 ° C De plus, 352 dispose d'un système de purification de l'eau de 1000 litres par heure, qui maintient la solution d'épuration constamment propre et pure, réduisant l'utilisation chimique et l'empreinte. Ce système est relié à un système de filtration en boucle fermée, qui recycle la solution de gommage et contribue à réduire la pollution. En conclusion, SCHMID 352 wafer & mask scrubber est un outil très efficace et fiable qui offre des performances de lavage inégalées. Grâce à sa conception simple et à ses technologies d'épuration avancées, il offre des procédés d'épuration rapides, flexibles et sûrs, tout en réduisant le coût des procédés et la pollution.
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