Occasion SSEC 300 ML Evergreen Series III #9140 à vendre en France

ID: 9140
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2000
Substrate cleaner, 12" Applications: Solvent cleaning Resist stripping Polymer or flux removal Automatic brush scrub High pressure spray: 3000psi Windows interface Chemistry handling in pullout drawers 2000 vintage.
Le SSEC 300 ML Evergreen Series III est un équipement de lavage de wafer et de masque haute performance conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs exigeants d'aujourd'hui. Le système offre une gamme avancée de paramètres d'épuration pour s'adapter à une variété de tailles de plaquettes, de matériaux et de finitions de surface. L'unité est composée de trois composants principaux : un laveur de plaquettes, un laveur de masques et un porte-plaquettes. L'épurateur à plaquettes est conçu pour adhérer à un processus d'épuration plus agressif que les autres, tout en minimisant le temps de processus et les niveaux de contamination. L'épurateur à masque de haute précision est conçu pour obtenir une uniformité de dépôt optimale, en maintenant un niveau élevé de propreté et de précision. Le porte-plaquettes peut contenir jusqu'à six plaquettes de 6 "empilées verticalement pour maximiser le débit des plaquettes. L'épurateur à plaquettes comprend un processus en deux étapes, comportant des cycles de pré-épuration et de post-épuration pour minimiser la contamination des plaquettes. Le pré-épuration utilise une bouillie abrasive, ou une solution de nettoyage, pour éliminer les résidus de la surface de la plaquette avant le cycle post-épuration. Le cycle de post-lavage est conçu pour réduire encore le nombre de particules résiduelles sur la surface de la plaquette en assurant une couverture de lavage uniforme. L'épurateur à masque utilise un processus de nettoyage en une seule étape et se compose d'une série d'éponges, de petites brosses et de micro-abrasifs pour éliminer les débris et les débris d'oxydation. Les éponges délogent les particules qui sont collées à la surface du masque tandis que les brosses sont conçues pour brosser doucement les résidus légers. Les micro-abrasifs éliminent l'oxydation et la corrosion, ce qui peut conduire à la réduction des longueurs de doublure gravées par masque. Pour optimiser les performances, la machine SSEC 300ML EVERGREEN SERIES III est équipée d'un poste de lavage automatisé des plaquettes et des masques. La station d'épuration permet aux opérateurs de programmer rapidement et avec précision les paramètres d'épuration humaine pour différentes tailles de plaquettes et de masques, matériaux et finitions de surface. Les processus automatisés d'épuration permettent également un débit plus rapide et une meilleure uniformité et précision de la lithographie. 300 ML Evergreen Série III est un choix idéal pour la fabrication de dispositifs de circuits intégrés, de systèmes optiques et d'autres applications de semi-conducteurs qui nécessitent des surfaces polies précises sans contamination. Grâce à ses processus automatisés de lavage de haute précision, l'outil fournit des surfaces de plaquettes et de masques cohérentes, exemptes de débris et d'oxydation, pour une uniformité, une précision et un rendement de lithographie optimaux.
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