Occasion SSEC 3300 ML #9163023 à vendre en France

Fabricant
SSEC
Modèle
3300 ML
ID: 9163023
Trillenium photomask cleaner Single brush scrub.
SSEC 3300 ML est un épurateur à plaquettes et masques qui est utilisé pour retirer la biomasse de la face d'un photomasque pendant le processus de support post-exposition. L'épurateur fonctionne en jetant un courant d'eau à haute pression sur la surface du masque, ce qui offre une efficacité de nettoyage supérieure. Le flux laisse également un revêtement protecteur d'huile sur la surface qui contribue à éviter toute contamination supplémentaire. L'épurateur est livré avec des réglages de débit et de température intégrés qui permettent à l'utilisateur de les ajuster en fonction des besoins spécifiques du processus. L'épurateur SSEC 3300ML est conçu avec des fonctionnalités avancées qui permettent un processus de nettoyage plus efficace et fiable. Il comprend une vanne de débit brevetée qui permet un débit constant de fluide de nettoyage, et la tête de lavage est conçue pour régler automatiquement l'angle et la pression des jets d'eau pour fournir une action de lavage efficace. L'épurateur est capable de manipuler des masques secs et humides, et il fonctionne avec une pression d'eau minimale de 1000psi seulement. Le réservoir de 32 litres aide à réduire les temps de remplissage et fournit des résultats de nettoyage cohérents. L'épurateur 3300 ML est également équipé d'un éclairage LED à faible énergie qui aide à éclairer la surface du masque pendant le processus de nettoyage. Cela permet un nettoyage plus précis et précis de chaque caractéristique. L'épurateur dispose également d'une poignée ergonomique et d'un boîtier extérieur léger pour le rendre plus convivial et confortable à manipuler. En outre, il est livré avec un panneau de commande numérique qui permet à l'utilisateur de sélectionner des paramètres prédéfinis tels que la quantité d'eau sous pression, l'angle des jets et la durée du cycle de nettoyage. 3300ML est un système de nettoyage efficace et fiable qui est idéal pour une utilisation dans le processus de photolithographie. Ses fonctionnalités automatisées et ses réglages réglables de débit et de température en font une solution simple et efficace pour maintenir des surfaces de masque propres pendant la production.
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