Occasion SSEC 3300 #9205591 à vendre en France

SSEC 3300 wafer & mask scrubber est un système de nettoyage automatisé conçu pour la fabrication de semi-conducteurs et d'autres procédés de revêtement de précision. Il fournit un processus de nettoyage complet et efficace en utilisant un flux de liquide de lavage délicat qui est alimenté en continu à la surface d'une plaquette ou d'un masque. L'unité offre une variété de réglages pour s'assurer que les processus de nettoyage appropriés sont réalisés pour différents matériaux et fins. 3300 wafer & mask scrubber a un design intégré basé sur les dernières technologies et optimisé pour un fonctionnement rapide et efficace. Sa conception intègre un certain nombre de caractéristiques qui aident à maximiser les performances de nettoyage et à minimiser le temps de cycle. Le laveur dispose d'un système unique de distribution de fluide de lavage avec débit, pression et vitesse de rotation réglables pour adapter le processus de lavage pour divers types de substrats et applications de nettoyage. En outre, l'épurateur offre des panneaux de contrôle en temps réel pour la surveillance et la régulation du processus de nettoyage. L'épurateur utilise des mesures de nettoyage mécaniques et chimiques pour éliminer efficacement divers types de contaminants de surface. L'action mécanique d'épuration est réalisée par une brosse molle tournante qui est mise en contact avec la surface du substrat. Les soies de brosse agissent comme un tampon d'épuration pour enlever les débris de surface, la poussière et les contaminants. Une variété de différents fluides de lavage peuvent être utilisés pour améliorer le processus de nettoyage. Le fluide d'épuration est ensuite forcé à travers des jets autour du périmètre de l'épurateur et sur la surface du substrat. Les presses et les chasse les débris de surface et les contaminants de la surface de nettoyage ainsi que le nettoyage de la surface du substrat de tout résidu laissé derrière. Le liquide d'épuration est ensuite rapidement évacué, emportant avec lui toute saleté, poussière et contaminants qui ont été soulevés. La combinaison des procédés de nettoyage mécanique et chimique utilisés dans SSEC 3300 wafer & mask scrubber se traduit par une qualité de nettoyage supérieure et un fonctionnement efficace. L'unité offre également une gamme de caractéristiques de sécurité avancées, y compris l'arrêt automatique si le fluide d'épuration est faible, ce qui permet de l'utiliser sans crainte d'endommager les substrats délicats et les revêtements. Grâce à sa conception conviviale, à sa taille compacte et à son efficacité de nettoyage supérieure, la plaquette 3300 est un excellent choix pour toute application de revêtement à semi-conducteur ou de précision.