Occasion SSEC 3300 #9302848 à vendre en France

Le SSEC 3300 est un épurateur à wafer/masque conçu pour éliminer les particules, composés organiques et autres contaminants qui peuvent dégrader la qualité des surfaces photosensibles ou altérer le rendement pendant le processus de lithographie. L'équipement est un rotateur planaire monobloc (SSP) configuré avec un processus en trois étapes qui utilise trois différents bains chimiques humides et de rinçage pour éliminer les contaminants de la plaquette ou du masque. 3300 comprend un banc humide qui comprend la chambre primaire de traitement des plaquettes/masques qui peut accueillir jusqu'à six plaquettes ou masques de 300mm, une chambre auxiliaire pour accueillir jusqu'à deux plaquettes ou masques de 150mm, et un troisième récipient de grand cycle pour accueillir jusqu'à deux plaquettes ou masques de 450mm. Le banc humide du système comprend également un mécanisme de levage et un générateur de vapeur, ainsi que des capteurs de température et de pression. Le processus de lavage des plaquettes/masques comprend les trois étapes suivantes : pré-rinçage, gommage et post-rinçage. Dans l'étape de pré-rinçage, la plaquette/masque est d'abord immergée dans une eau ultra-pure pour éliminer les particules, et les composés organiques de la surface de la plaquette/masque. Ensuite, les plaquettes/masques sont nettoyées dans une solution semi-aqueuse à base chimique comme le solvant, qui émulsifie et élimine les particules, les composés organiques et les autres contaminants de la plaquette/masque. Enfin, la plaquette/masque est rincée dans un second bain d'eau ultra-pure, ce qui élimine les contaminants restants. SSEC 3300 dispose également d'une puissante unité de circulation à conduction d'air qui permet de s'assurer que les solutions dans la chambre sont toujours en mouvement et à température constante. Cela aide à augmenter le processus d'épuration des plaquettes/masques. En outre, la machine comprend également un outil automatique de chargement et de déchargement des plaquettes/masques qui augmente l'efficacité du processus de lavage des plaquettes/masques. L'actif est facile à utiliser, et peut être adapté aux besoins spécifiques d'épuration de toute application particulière. Sa conception ergonomique permet également d'augmenter le confort de l'opérateur et de diminuer la fatigue. Enfin, 3300 est construit à partir de matériaux résistants à la corrosion, de sorte qu'il peut résister aux environnements corrosifs durs du processus de lithographie.