Occasion SSEC M3302 #9229623 à vendre en France

Fabricant
SSEC
Modèle
M3302
ID: 9229623
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2011
Wafer cleaning system, 6" Designed for isopropyl alcohol (IPA) N-Methylpyrrolidone (NMP) Pipes: Ammonia and hydrogen peroxide Modules: Loading module Unloading module Processing module Drying module Processing plates in 3-stages: Processing in an alkaline solution of caustic potassium Processing in stream of deionized water Drying in stream of nitrogen Time of one cycle of processing a plate: 45-60s Centrifuge rotor speed: Treatment in alkali + washing deionized water: 30-300 RPM Drying: 2500-3500 rpm Accessories: ACER Monitor Processor block Fastening for monitor and keyboard Mouse Keyboard Power consumption: 208 V, 6.0 kVA, 3-Phase, 60 Hz 2011 vintage.
SSEC M3302 est un nettoyeur de plaquettes et de masques à haute performance. Cette machine est conçue pour éliminer avec précision et efficacité les particules de surface des plaquettes semi-conductrices et des substrats photomasques. SSEC M 3302 est capable de fournir un nettoyage supérieur en utilisant une combinaison de jets haute pression et d'extraction sous vide. Le réservoir de machines est entièrement en acier inoxydable afin de résister aux produits chimiques et de faciliter le nettoyage et l'entretien. M3302 est équipé d'un convoyeur à vitesse variable qui peut facilement s'ajuster pour accueillir différents types de plaquettes et de substrats photomasques. Cela permet un processus de nettoyage cohérent quel que soit le type de matériau. Dans le processus de nettoyage, M 3302 utilise une combinaison de brossage et de jets à haute pression d'eau ou d'agents chimiques pour irradier les particules de surface. Grâce à cette méthode, SSEC M3302 est en mesure de fournir un nettoyage complet même pour les applications les plus difficiles en salle blanche. La SSEC M 3302 est équipée d'une vanne de débit réglable pour un contrôle précis de la concentration des milieux de nettoyage utilisés dans le procédé. Pour assurer un résultat de qualité optimal, le débit est réglable pour maintenir un rapport constant entre les milieux de nettoyage et la surface de la plaquette nettoyée. En outre, pour les opérateurs qui souhaitent basculer entre des solutions de nettoyage rudes et douces, M3302 est livré avec des paramètres pré-programmables. Cela permet un échange rapide, facile et sûr d'une solution de nettoyage à l'autre sans avoir besoin d'ajuster manuellement les réglages. Pour garantir un résultat de haute qualité, le M 3302 dispose d'un système de détection dynamique des vibrations conçu pour détecter toute vibration anormale lors du nettoyage. Si des vibrations sont détectées, la machine s'arrête instantanément pour éviter tout dommage à la plaquette ou à la photomasque nettoyée. SSEC M3302 est conçu pour fournir un moyen rapide et efficace de nettoyer les plaquettes semi-conductrices et les substrats photomasques. Utilisant un contrôle précis de sa solution de nettoyage et de puissants systèmes de brossage et de jet haute pression, SSEC M 3302 peut assurer un nettoyage de qualité même pour les applications les plus difficiles en salle blanche. De plus, avec son débit réglable et ses réglages pré-programmables, cette machine offre un moyen rapide et simple de nettoyer plusieurs substrats avec une variété de méthodes.
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