Occasion SSEC M3302 #9236399 à vendre en France

SSEC M3302 wafer and mask scrubber est un équipement de précision pour le nettoyage et l'épuration des wafers et des photomasques utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Il est conçu pour offrir des performances de lavage élevées en même temps que des débits accrus et des pertes d'abrasion minimisées. SSEC M 3302 wafer and mask scrubber dispose d'un design industriel tout-en-un avec une technologie de pointe qui est conçu pour répondre aux exigences du marché des semi-conducteurs d'aujourd'hui. Il est équipé de quatre modules d'épuration, chacun comportant trois épurateurs avec des vitesses et des fonctions réglables qui permettent une large gamme de vitesses et de motifs d'épuration. Il dispose également d'un noyau de cassette de lavage programmable, qui permet un temps de réglage rapide, un contrôle précis et une efficacité de lavage élevée. Les composantes principales de gaufrette M3302 et de masque scrubber incluent une poussière et une unité d'enlèvement de particule, en frottant la station, concentrent l'équipement de livraison, concentrent le système de direction, l'unité de protection de masque de photo et la machine de manipulation de gaufrette automatique. L'unité d'élimination des poussières et des particules permet de filtrer les particules jusqu'à 0,003 micron pour s'assurer que tous les débris indésirables sont éliminés avant l'épuration. Le poste d'épuration se compose de trois têtes d'épuration qui peuvent épurer jusqu'à 35 plaquettes à tout moment. De plus, la pression de la brosse peut être ajustée pour assurer un niveau constant de consistance d'épuration. L'outil de livraison de concentrés est conçu pour être à la fois précis et fiable. Il est équipé d'un atout de concentrés ultra soniques qui offrent des performances de nettoyage supérieures, indépendamment de la plaquette ou du matériau photomasque, sans gaspillage ou contamination du substrat. De plus, le modèle de gestion des concentrés garantit que la quantité correcte de concentrés est livrée pour chaque application. L'équipement de protection des photomasques garantit que toute substance étrangère ou toute particule de tige est évitée pendant le processus de lavage en utilisant un processus de blindage électromagnétique qui aide à protéger le photomasque pendant le lavage. Enfin, le système automatisé de manutention des plaquettes offre un débit et une fiabilité accrus, minimisant le risque de rayures des plaquettes pouvant survenir lors de la manutention manuelle. Il est important de noter que la plaquette M 3302 et l'épurateur à masque doivent être manipulés dans un environnement de salle blanche afin d'assurer la plus grande propreté et la prévention de la contamination. De plus, l'unité doit également être entretenue régulièrement, car un nettoyage inadéquat peut entraîner une réduction de l'efficacité du lavage.