Occasion SYBRON THERMOLYNE Barnstead #9397722 à vendre en France

SYBRON THERMOLYNE Barnstead Wafer and Mask Scrubber est un épurateur manuel conçu pour enlever rapidement et facilement les photorésist ou autres résidus des plaquettes et des surfaces photomasques. La conception compacte de l'épurateur le rend facile à installer dans les lignes de production existantes, et son cadre en acier inoxydable offre une construction robuste qui peut résister à des environnements de production difficiles. Cette unité dispose également d'un réservoir d'eau HDPE (High Density Polyéthylène) qui est résistant aux dommages causés par l'eau chaude ou les solutions de nettoyage rudes. L'épurateur fonctionne à des températures réglables allant jusqu'à 250 ° F et a une vitesse réglable allant jusqu'à 2500 tr/min. Il comprend également des tampons de lavage doubles de 10 "et un panier de filtration amovible de 5 microns pour permettre un lavage complet et efficace des plaquettes et des photomasques. Le minuteur permet à l'utilisateur de régler la durée de lavage souhaitée, assurant la qualité des résultats et éliminant toute possibilité de sureffectif. L'épurateur dispose également de ports spéciaux pour l'enlèvement de l'huile et d'une sortie de sac jetable. L'épurateur Thermolyne Barnstead est conçu pour offrir des résultats de la plus haute qualité avec un entretien minimal. Il est doté d'un joint hermétique de qualité alimentaire qui empêche les fuites d'eau et d'un système de vide très efficace et de faible capacité qui élimine rapidement et efficacement l'eau résiduelle pendant l'achèvement du cycle. L'élément chauffant lourd est également conçu pour assurer des températures uniformes tout au long du cycle et est protégé par un thermostat très efficace pour éviter toute détérioration du joint thermique. Dans l'ensemble, SYBRON THERMOLYNE Barnstead Wafer and Mask Scrubber est un excellent choix pour toute ligne de production de semi-conducteurs à la recherche d'un outil fiable et efficace à un coût modéré. Il est conçu pour éliminer la photorésist et d'autres contaminations des surfaces de plaquettes et de photomasques avec des exigences minimales d'entretien.