Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+ #9182405 à vendre en France
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Vendu
ID: 9182405
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2011
Single wafer processing system, 12"
Application used: FEOL
Chamber 2-1:
Process: SC1
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm with IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-2:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-3:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-4:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-5:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-6:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-7:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-8:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-9:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-10:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-11:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Chamber 2-12:
Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg)
Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg)
Chuck type: Mechanical chuck
Currently stored in cleanroom
2011 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Cellesta + est un épurateur de plaquettes et de masques haut de gamme, conçu pour la production de plaquettes semi-conductrices de haute précision. Le puissant mécanisme d'épuration effectue un nettoyage approfondi sans causer de dommages ou de contamination à la surface des plaquettes, tandis que l'algorithme de nettoyage avancé s'adapte à différentes technologies, fournissant un processus de nettoyage fiable et cohérent. TEL Cellesta + est équipé d'un extracteur de poussières haute performance qui utilise un flux d'air puissant pour un processus efficace de dépoussiérage. Il peut manipuler à la fois des plaquettes en silicium sur isolant (SOI) et des plaquettes en vrac d'un diamètre allant jusqu'à 8 ". A l'intérieur du boîtier de la plaquette se trouve une plate-forme de nettoyage qui se compose d'une brosse de lavage de qualité industrielle et d'une buse vibrante audio-fréquence qui augmente la surface de contact entre les surfaces de nettoyage et la surface de la plaquette. Cette technologie combinée crée une opération de nettoyage très efficace avec une latence minimale et des coûts d'exploitation moindres. TOKYO ELECTRON Cellesta + dispose également d'un système de vision intégré et d'une source lumineuse indépendante pour une inspection de surface transparente. Il peut détecter les dommages de surface, la contamination, les microfissures, les puits et d'autres problèmes de production potentiels, puis alerter les utilisateurs de tout problème qui doit être réglé. Cette rétroaction en temps réel permet de maintenir la qualité des plaquettes tout au long du processus de production. L'épurateur est respectueux de l'environnement et est soutenu par un système de sécurité robuste. Il est conçu pour s'arrêter automatiquement en cas de coupure de courant, ainsi que pour offrir un fonctionnement à faible bruit. En outre, son unité de contrôle haut de gamme offre des commandes à distance et un diagnostic d'erreur, permettant un dépannage efficace. Dans l'ensemble, Cellesta + offre des capacités supérieures de nettoyage des plaquettes, de vision de surface et d'extraction de poussière, ce qui en fait une solution idéale pour une production avancée de plaquettes.
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