Occasion TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #293614676 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 293614676
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Wafer scrubber, 12" Material: Silicon Utility outlet: Vertical downward Carrier station block Carrier stage height: 900 mm Wafer transport method: Robotics transport method (X, Y, Z, Θ) Sensor placement sensor Presence sensor Mapping sensor Wafer out sensor Load port: Bolts / Light Loader: FOUP Load port lockout pin: FEOL Load port indicator Operator access switch FOUP Type: (25) Wafers Kinematic coupling pin Clamp Fan Filter Unit (FFU) AMHS: SHINKO ELCTRIC OHT I/O Sensor ES Switch terminal block Carrier ID reader Alarm lamp: Red / Blue / Yellow / Green Direct drain Digital manometer exhaust monitor Does not include HDD Scrubber process station: Mechanical chuck Wafer holding method: 6-Pins edge contact method Wafer fixing method: 3-Points grip method Wafer sensor N2 Purge backside liquid contact prevention Acceleration: 100 to 1,000 rpm (100 rpm/s increment) Dual band monitor: Alarm rpm bandwidth, stop rpm bandwidth Alarm / Stop rpm setting range: ±0 to 1,000 rpm Process recipes: 1000 Recipe steps: 100 Process time setting: 0 to 999.9 sec/step (0.1 sec increment) Arm: Brush and spray PVA and PP Brush Atomized spray nozzle Flow range: 100 L/min Basic setting: 0.2 L/min (2) Side rinse nozzles ENTEGRIS DIW Filter Rinse nozzle purge method: Slow leak ULPA Filter Rotation speed: CH2-1, CH2-2: 0, 10 to 3,000 rpm (1 rpm increment) CH2-3, CH2-4: 0, 10 to 4,000 rpm (1 rpm increment) AC Power box: Round terminal for main breaker Voltage: 208 V Option: CCD Camera Spinner internal lighting 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 Wafer & Mask Scrubber est un outil fiable et efficace utilisé dans diverses industries. Principalement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et les industries connexes, TEL NS 300 Wafer & Mask Scrubber fournit des plaquettes et des masques plus propres pour améliorer le contrôle et le rendement des procédés de fabrication. Disponible dans un design compact et convivial, TOKYO ELECTRON NS300 Wafer & Mask Scrubber est très efficace et efficace pour nettoyer les plaquettes contaminées et/ou pulvérisées, les masques à quartz, les plaques de verre et autres. NS300 Wafer & Mask Scrubber est conçu avec un réservoir inférieur de 120 litres de secousse/gommage, avec une vitesse réglable pour des résultats de nettoyage optimaux. L'action d'épuration se fait par sa plaque d'agitation filante, donnant un nettoyage uniforme dans toutes les directions. Non seulement l'unité de gommage est très durable et capable de créer même des surfaces propres, mais le niveau de bruit est calme et bien dans les niveaux stipulés par la loi le rendant approprié pour la plupart des environnements. TEL/TOKYO ELECTRON NS300 Wafer & Mask Scrubber est équipé d'un équipement de régulation de température et d'un capteur de température numérique, permettant aux utilisateurs de régler la température de manière efficace et précise. L'épurateur est également livré avec un système de drainage, une unité de nettoyage à ultrasons automatisée avec de nombreux cycles de nettoyage différents, une machine de contrôle automatique du drain pour le drainage contrôlé, et un outil de contrôle précis pour le réglage de la température et le contrôle de la température. Pour répondre aux besoins d'une variété de plates-formes, TOKYO ELECTRON NS 300 Wafer & Mask Scrubber dispose également d'une grande fenêtre inclinée, de jambes antivibratoires, de pistolets à air réglables et d'un large choix de solutions de trempage afin que les utilisateurs aient la flexibilité de personnaliser un processus pour répondre à leurs besoins spécifiques. Dans l'ensemble, TEL NS300 Wafer & Mask Scrubber est un outil puissant, convivial et intuitif qui permet d'économiser du temps et de l'argent dans le processus de production. Sa construction durable garantit que NS 300 Wafer & Mask Scrubber peut être utilisé pour nettoyer rapidement et efficacement les plaquettes et les masques, tandis que son atout de contrôle de température et son modèle de contrôle précis améliore encore la fiabilité et les performances des processus.
Il n'y a pas encore de critiques