Occasion TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9228401 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON NS 300
ID: 9228401
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Scrubbers, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 est un laveur de plaquettes et de masques, conçu pour les opérations de processus semi-conducteurs. Il permet un traitement à haut rendement et à faible teneur en particules. Le TEL NS 300 fournit une opération d'épuration automatisée des plaquettes, ce qui est essentiel pour les opérations plus importantes où une approche manuelle peut être inefficace. Cela comprend le nettoyage du bord du substrat avant chargement dans la chambre de procédé, le nettoyage des supports usagés et la finalisation des opérations de nettoyage après traitement. L'épurateur est équipé d'une plate-forme principale qui supporte la plaquette et le porte-processus, ainsi que d'un ensemble de « bras » pour maintenir la plaquette ou le masque de façon sûre et les faire tourner pour l'épuration. Il est capable de rotation horizontale ou verticale, avec des vitesses allant jusqu'à 7000 tr/min. L'épurateur dispose également d'un équipement de réservoir dédié pour les solutions de gravure, avec un système de remplissage et de vidange automatisé. L'épurateur est équipé de deux distributeurs de lavage capables de manipuler des agents de nettoyage à base de liquide et de poudre. Ceux-ci sont distribués sur le substrat et le porte-procédé pendant qu'ils sont filés à un régime élevé. L'épurateur a un ensemble efficace de caractéristiques pour minimiser la pollution par les particules, comme une unité de vide intégrée qui piège les particules et les dépose dans un conteneur de transfert. L'épurateur dispose d'un compteur de particules qui surveille les particules de plus de 0,5 μ m, ainsi que d'une machine de télécommande avancée qui peut contrôler l'épurateur depuis des endroits éloignés autorisés. Le NS 600 est conforme à la norme SEMI S2 pour minimiser la pollution par les particules et est le plus efficace de sa catégorie. Ce produit leader de l'industrie ouvre la voie au développement de procédés de semi-conducteurs propres et efficaces.
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