Occasion ULTRA-T EQUIPMENT / UTE PSC 122M #9301030 à vendre en France

ID: 9301030
Photomask substrate cleaner.
ULTRA-T EQUIPMENT/UTE PSC 122M Wafer & Mask Scrubber est un équipement polyvalent conçu pour assurer un nettoyage précis des plaquettes et des masques dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. La machine dispose d'un équipement automatisé à haut débit capable de nettoyer rapidement un maximum de six plaquettes ou masques de 300mm simultanément afin d'obtenir des résultats de nettoyage supérieurs. Le processus d'épuration se déroule dans une armoire inclinée qui maintient la plaquette ou le masque dans un environnement confortable et ergonomique. L'unité est équipée d'une hauteur de brosse réglable, fréquence de vibration et plage de température qui permet un contrôle fin des paramètres d'épuration. Le rideau d'air intégré aide à empêcher les particules aéroportées d'entrer dans l'armoire et permet un meilleur environnement de nettoyage pour les plaquettes et les masques. Le processus d'épuration est géré par un système de contrôle qui automatise les opérations, y compris les cycles de machine, la vitesse de brosse, la température et le comptage tactile. De plus, il permet de programmer différents cycles de nettoyage pour répondre aux paramètres de nettoyage spécifiques requis pour les processus de fabrication des plaquettes et des masques. L'interface conviviale, la mémoire intégrée et les fonctions de cycle programmables permettent aux opérateurs d'ajuster rapidement les paramètres de la machine au besoin. L'unité dispose également d'une machine de surveillance et d'alarme intégrée qui peut être programmée avec divers paramètres et seuils, y compris la température de la plaquette, la pression du pinceau, la fréquence vibrationnelle et le temps de cycle. Ces paramètres peuvent être facilement ajustés pour optimiser le processus d'épuration et prévenir tout problème de sécurité potentiel. UTE PSC 122M Wafer & Mask Scrubber est conçu pour répondre aux exigences les plus exigeantes de fabrication de semi-conducteurs, et est un choix idéal pour le lavage précis et efficace des plaquettes et masques. Le design sophistiqué, l'outil à haut débit et les caractéristiques robustes en font un excellent choix pour toute installation de production moderne.
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