Occasion ULTRA-T EQUIPMENT / UTE SCS i124 #9190017 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ULTRA-T EQUIPMENT / UTE SCS i124
Vendu
ID: 9190017
Taille de la plaquette: 8"
Wafer clean tool, 8".
ULTRA-T EQUIPMENT/UTE SCS i124 est un épurateur de wafer et de masque haut de gamme conçu pour fournir des performances de nettoyage supérieures et un rendement de procédé amélioré pour la fabrication de wafer et de masque semi-conducteurs. UTE SCS i124 est idéal pour des applications microélectroniques telles que la fabrication de plaquettes, la fabrication de dispositifs optiques ou tout procédé nécessitant un masque propre ou des surfaces de plaquettes. ULTRA-T EQUIPMENT SCSI124 comprend les technologies de nettoyage les plus performantes de l'ULTRA-T, avec une brosse d'épuration motorisée et une puissante agitation ultrasonore. Cette combinaison de méthodes de nettoyage permet d'éliminer jusqu'à 2µm de particules des surfaces des plaquettes et des masques en une seule passe sans endommager le substrat, améliorant grandement le processus d'imagerie. L'épurateur à plaquettes et masques est alimenté par un système de pulvérisation d'eau contrôlé de précision qui applique une distribution uniforme d'eau détergente et désionisée sur la surface épurée. Un système de rinçage intégré nettoie ensuite la plaquette ou le masque, assurant en outre l'élimination des particules avant l'imagerie. D'autres caractéristiques de l'ULTRA-T SCS i124 comprennent un panneau de commande tactile facile à utiliser pour des réglages de nettoyage précis et une porte latérale pour un chargement et un déchargement commodes. De plus, l'épurateur est conçu pour être ergonomique et facile à utiliser, avec un bras pivotant qui incline et tourne pour permettre un positionnement facile pour différents types de tâches de nettoyage des plaquettes ou des masques. L'ULTRA-T ULTRA-T EQUIPMENT/UTE SCSI124 est capable de fournir aux utilisateurs des rendements de processus améliorés, des surfaces de plaquettes et de masques plus propres et des images de meilleure qualité. De plus, ses technologies de nettoyage avancées permettent un débit plus rapide et moins d'usure sur les substrats, ce qui entraîne moins de rejets et des produits de meilleure qualité.
Il n'y a pas encore de critiques