Occasion ULTRATECH PC 602 #186831 à vendre en France

ULTRATECH PC 602 Wafer and Mask Scrubber est un équipement automatisé pour le nettoyage et l'épuration des substrats, tels que les photomasques et les plaquettes, pour les applications semi-conductrices et microélectroniques. Il utilise un système de convoyage très fiable pour transporter les substrats tout au long du processus et fournir le plus haut niveau de précision de nettoyage, de répétabilité et de précision. PC 602 Wafer and Mask Scrubber est conçu avec un concept modulaire qui facilite l'intégration des outils, la configuration des processus et la gestion des données. Son interface conviviale fournit une méthode simple et accessible aux opérateurs pour contrôler, exploiter et surveiller le processus. La technologie de logique de processus intelligente du nettoyeur permet une gestion des données puissante et la traçabilité des paramètres du substrat, du calendrier et de l'historique tout au long du processus de nettoyage. ULTRATECH PC 602 Wafer and Mask Scrubber utilise la conception à double chambre, ce qui lui permet de traiter des wafers sur la même ligne dans un cycle continu, ce qui entraîne des améliorations significatives du débit et de la productivité. La flexibilité des chambres à double processus permet d'épurer différents substrats dans le même procédé sans nécessiter de commutation manuelle. L'unité dispose également d'une machine entièrement automatisée de « mécanisation » d'outils pour un passage facile entre différents substrats. Les cassettes de gaufres de l'outil offrent une expérience de chargement rapide et facile, et il n'est pas nécessaire de serrer ou de changer d'outillage. L'épurateur est également équipé d'une aide à la charge supérieure visuelle et d'une capacité de positionnement de charge précise pour un emplacement précis du substrat. PC 602 Wafer and Mask Scrubber est équipé d'un outil de plongée pneumatique sophistiqué et à haute résolution. Les plongeurs assurent une pression uniforme et une linéarité précise tout au long du processus d'épuration et assurent des résultats de processus parfaits. L'épurateur est conçu pour supporter différentes tailles de plaquettes, tailles de masques et types de substrat, offrant une flexibilité et une évolutivité inégalées. En outre, ULTRATECH PC 602 Wafer et Mask Scrubber dispose d'une variété de fonctionnalités de sécurité, telles que l'arrêt automatique en cas de perte de puissance, et l'arrêt automatique en cas de surchauffe ou de perte de puissance d'utilité. Ces caractéristiques de sécurité garantissent que l'actif est conforme aux normes de sécurité de l'industrie et qu'il dure des années de fonctionnement fiable. PC 602 Wafer and Mask Scrubber est une solution avancée et fiable pour nettoyer les supports de masque et de wafer. Sa flexibilité exceptionnelle, son interface utilisateur intuitive et son souci de sécurité garantissent sa fiabilité et ses performances élevées.