Occasion VEECO / SSEC M3307 #293689796 à vendre en France

ID: 293689796
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2009
Stripper, 12" Process type: Flux clean (2) TDK TAS300 Load ports Robot Immersion chamber (Mod 1) Chemical chamber (Mod 2 / 3 / 4) Rinse / Dry chamber (Mod 5 / 6) 2009 vintage.
VEECO/SSEC M3307 est un laveur de plaquettes et de masques de pointe conçu pour répondre aux exigences strictes de nettoyage de l'industrie des semi-conducteurs. Cet équipement innovant est conçu par SSEC Instruments Inc., un fournisseur de pointe de technologies de procédés en couches minces. SSEC M3307 est un outil de pointe qui offre des performances de nettoyage supérieures, un débit élevé et une fiabilité exceptionnelle pour le nettoyage des substrats critiques tels que les plaquettes de silicium et les photomasques. Au cœur de VEECO M3307 se trouve sa technologie de nettoyage avancée, qui utilise une combinaison d'épuration mécanique et de procédés chimiques pour éliminer efficacement les contaminants et les résidus de la surface de la plaquette ou du masque. Le système dispose de pinceaux d'épuration multiples qui sont spécifiquement conçus pour assurer un nettoyage doux mais approfondi sans causer de dommages aux substrats délicats. Ces brosses peuvent fonctionner à des vitesses élevées et des pressions réglables pour assurer des résultats de nettoyage optimaux tout en maintenant l'intégrité du processus. L'un des points forts de M3307 est sa polyvalence dans la manipulation d'un large éventail de tailles et de matériaux de substrat. L'unité est équipée de recettes de nettoyage personnalisables qui peuvent être adaptées aux exigences de nettoyage uniques de différents substrats, y compris les plaquettes de silicium, les photomasques et d'autres matériaux semi-conducteurs. Cette flexibilité permet aux fabricants de semi-conducteurs d'obtenir des résultats de nettoyage cohérents et uniformes dans diverses applications de processus. En plus de ses capacités de nettoyage avancées, VEECO/SSEC M3307 est conçu pour un débit et une efficacité élevés afin de répondre aux exigences des installations modernes de fabrication de semi-conducteurs. La machine est équipée de fonctions de manutention automatisée, y compris le chargement/déchargement robotique de plaquettes et le traitement cassette-à-cassette, qui rationalisent le processus de nettoyage et minimisent l'intervention de l'opérateur. Cette automatisation permet non seulement d'améliorer la productivité, mais aussi de réduire les risques de contamination et d'erreurs de manipulation lors du nettoyage du substrat. En outre, SSEC M3307 intègre des systèmes avancés de surveillance et de contrôle pour assurer la cohérence et la fiabilité des processus. L'outil est équipé de capteurs de surveillance en temps réel qui suivent en permanence les principaux paramètres de nettoyage, tels que la pression du pinceau, la vitesse de rotation et les débits chimiques. Ces données sont ensuite analysées par des algorithmes logiciels intelligents pour optimiser le processus de nettoyage et maintenir des performances optimales dans le temps. En outre, VEECO M3307 est conçu avec des interfaces conviviales et des commandes logicielles intuitives qui permettent un fonctionnement et une maintenance faciles. L'actif dispose d'un écran tactile qui fournit aux opérateurs des mises à jour en temps réel de l'état des processus, des notifications d'alarme et des outils de diagnostic pour dépanner les problèmes rapidement et efficacement. De plus, le modèle est équipé de capacités de diagnostic à distance, ce qui permet à l'équipe de soutien technique VEECO de fournir une assistance rapide et de minimiser les temps d'arrêt du matériel. En conclusion, M3307 wafer and mask scrubber représente une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs à la recherche d'un outil de nettoyage fiable et performant pour les substrats critiques. Avec sa technologie de nettoyage de pointe, sa polyvalence, ses fonctionnalités d'automatisation et ses capacités de surveillance robustes, VEECO/SSEC M3307 offre aux fabricants de semi-conducteurs un avantage concurrentiel pour obtenir des résultats de nettoyage supérieurs et une efficacité de processus dans les opérations de fabrication de semi-conducteurs.
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