Occasion ARTEC Eva Lite #9253485 à vendre en France

ARTEC Eva Lite est un pas de plaquette qui offre un alignement précis et précis pour les marchés de photomasking et de nanofabrication. Il est conçu pour fournir une solution économique et fiable pour l'alignement des photomasques et les besoins en lithographie nanoimprinte en lithographie, lithographie numérique et masques avancés. Eva Lite est hautement configurable et offre une solution optimale pour l'alignement rentable des photomasques. Le « Eva » dans ARTEC Eva Lite signifie « Alignement visuel électronique » et est basé sur une plate-forme logicielle évoluée et conviviale. Cette plate-forme offre aux utilisateurs un enregistrement rapide et facile et un alignement des masques, ce qui rend Eva Lite adapté aux applications exigeantes de nanofabrication et de photomasking. ARTEC Eva Lite dispose d'une construction prober rigide avec une précision et une répétabilité élevées. Il est également livré avec une fenêtre optique de haute précision, qui fournit une observation précise du processus d'alignement sur le prober. Eva Lite est hautement configurable et offre à l'utilisateur une large gamme de différents alignements et masques optiques. Il offre également un système d'exposition configurable, permettant aux utilisateurs de choisir le réglage d'exposition approprié en fonction des exigences du poste. ARTEC Eva Lite offre une capacité d'augmentation jusqu'à une taille de plaquette de 4,2 pouces. Il a une précision maximale de 3,0 μ m, permettant aux utilisateurs d'obtenir un alignement de haute précision de leurs motifs et masques. Eva Lite dispose d'une capacité d'auto-étalonnage à grande vitesse pour corriger et ajuster automatiquement les paramètres d'alignement et d'exposition du masque. Il dispose d'un système à quatre axes pour assurer un alignement à haute résolution du masque, et il comprend des pistes EFEM pour optimiser au maximum le pas et le temps. ARTEC Eva Lite dispose également d'un ensemble de générateurs de signaux embarqués pour l'enregistrement de motifs à bande passante élevée, améliorant ainsi la précision du processus d'alignement du masque. Afin d'assurer une précision répétable, Eva Lite dispose d'un système intégré de mémoire qui permet aux utilisateurs de stocker leur configuration de résultat précédente et de comparer les résultats entre les différentes séries. Il est également équipé d'une interface complète de contrôle des processus pour permettre aux utilisateurs de gérer facilement le flux de travail et d'assurer des résultats reproductibles. En outre, ARTEC Eva Lite est certifié SEMI® et est conçu pour répondre à des normes industrielles strictes. Dans l'ensemble, Eva Lite est un pas de plaquette très fiable et rentable conçu pour fournir un alignement précis pour les marchés de photomasking et de nanofabrication. Sa gamme de caractéristiques et sa configurabilité en font une solution idéale pour la production et la recherche.