Occasion ASM D1 #9399288 à vendre en France

ASM D1 wafer stepper est un équipement lithographique de pointe utilisé pour la fabrication de circuits intégrés semi-conducteurs. Il est principalement utilisé comme un aligneur de masque pour transférer des motifs de circuits bidimensionnels sur la plaquette pour un traitement ultérieur. La conception unique du pas assure un alignement précis et expose les circuits au motif du masque avec un minimum de mouvement. D1 wafer stepper est capable de manipuler une variété de tailles de substrat et est équipé d'un système de vision avancée qui utilise des réseaux de diffraction et un strobe elliptique pour corriger tout désalignement. De plus, le système de vision peut détecter les couches trop minces et ajuster la source lumineuse pour respecter le temps d'exposition optimal. ASM D1 wafer stepper peut également traiter plusieurs couches en une seule opération. Il est capable de travailler avec une grande variété de matériaux, y compris les polymères photosensibles, le film et le verre, avec une plate-forme mobile spécialisée contrôlant l'orientation de la plaquette au motif du masque. La plaquette est maintenue fixe pendant le processus d'exposition, ce qui permet une excellente stabilité et résolution. La conception unique de D1 wafer stepper offre également la commodité des capacités optiques interchangeables. Pour garantir la meilleure qualité d'imagerie, il est équipé d'un revêtement anti-reflet pour l'objectif, d'un système de condenseur unique pour contrôler les aberrations, d'une lentille réglable et d'un capteur d'image multi-canaux. En plus de sa précision et de sa précision, la conception pratique du pas de plaquette ASM D1 permet à ses opérations de rester compatibles avec un temps d'arrêt minimal et un temps de disponibilité maximal. L'étage rotatif complet et la fonction moteur programmable aident à augmenter la vitesse du processus tout en fournissant des performances lisses, fiables et cohérentes. Dans l'ensemble, D1 wafer stepper est un excellent outil de lithographie pour les processus semi-conducteurs de haut volume. Sa conception robuste et ses performances fiables lui permettent d'obtenir des rendements élevés et d'assurer précision, précision et cohérence dans la production.