Occasion ASML AT-1150C #9226883 à vendre en France

ASML AT-1150C
Fabricant
ASML
Modèle
AT-1150C
ID: 9226883
Taille de la plaquette: 12"
ARF Scanners, 12" 193 nm.
ASML AT-1150C est un pas de plaquette de haute précision conçu pour la production de petits dispositifs semi-conducteurs tels que MEMS, QFN, et des paquets LED. L'équipement dispose d'un champ de vision de 5,5 pouces, ce qui permet l'imagerie de structures même les plus complexes avec une fidélité d'image élevée. Son optique de réduction 5X avec ouverture numérique élevée (NA) de 0,60, ainsi que la réduction de diffraction par pas, se traduit par une résolution de 1,3 microns sur l'ensemble du champ de vision. Le système est regroupé en trois composantes : l'unité d'optique, le contrôleur et le générateur de motifs. La machine optique se compose d'un filtre spatial, d'un étage, d'un objectif, d'un illuminateur et d'un aligneur. L'étage est connecté au contrôleur et sert à aligner avec précision l'échantillon sous l'objectif. L'Aligner est utilisé pour régler l'orientation angulaire de l'objectif pour un positionnement précis de l'outil d'imagerie. Le Contrôleur est utilisé pour contrôler et gérer l'ensemble de l'actif, ainsi que pour stocker le modèle généré. Le composant générateur de motifs du modèle est basé sur une source laser et génère des motifs à haute résolution. Il peut générer des images limitées à la diffraction avec des résolutions de 0,5 microns sur tout le champ de vision. Cette fonctionnalité, ainsi que l'imagerie de réduction 5X et l'optique High NA, la rend idéale pour générer des structures complexes avec une grande fidélité à l'image. Cet équipement est hautement personnalisable et peut être configuré avec différentes options telles que plusieurs lentilles, régulateurs de température, et divers appareils de mesure. Il est également intégré avec des logiciels standard de l'industrie pour l'alignement des masques et la génération de motifs. La technologie utilisée dans ce système est avancée et extrêmement fiable. L'unité est conçue pour fonctionner sans arrêt et offre un faible coût d'entretien. Cette machine est capable de hauts rendements et produit des images supérieures dans une gamme de formats. En résumé, ASML AT 1150C est un outil d'étape de wafer de classe mondiale qui est spécifiquement conçu pour produire des images de haute précision et de haute qualité avec la plus grande précision. Son optique avancée, son générateur de motifs haute résolution et ses diverses fonctionnalités personnalisables en font un choix idéal pour la production de structures complexes.
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