Occasion ASML AT-1150C #9412396 à vendre en France

ASML AT-1150C est un outil d'exposition avancé utilisé pour la lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un pas de plaquette de pointe qui a été conçu pour une grande vitesse, un débit élevé et un faible coût de possession. ASML AT 1150C utilise une optique de pointe, un équipement d'inspection très stable et précis et un système unique de manutention des plaquettes pour un fonctionnement automatisé et sans équipage. AT:1150C se compose de trois composants principaux : une unité optique, une machine d'inspection et un outil de manutention des plaquettes. L'actif optique utilise une source d'exposition au mercure dans la vapeur de 6,0 mm de longueur d'onde, ainsi qu'un modèle de balayage par pulvérisation d'impulsions. Ceci fournit une capacité d'exposition haute résolution avec une précision de 1,5 nm et un champ d'image de 215mm × 215mm. L'équipement d'inspection est basé sur un système de balayage en temps réel qui utilise un Quadrant Detector Array avec des détecteurs in-pixel. Cette unité est capable de surveiller chaque élément du processus d'exposition, avec une capacité de créer une carte détaillée de la plaquette. Enfin, la machine de manutention des plaquettes est conçue pour fournir un fonctionnement automatisé et sans équipage avec un faible coût global de propriété. Il utilise une piste en acier inoxydable qui supporte jusqu'à quatre plaquettes et peut être préprogrammé avec jusqu'à 19 programmes définissables par l'utilisateur. AT-1150C est capable de manipuler des films minces, des films multicouches et tous types de substrats de plaquettes, tels que le quartz, le silicium et le métal. En outre, il est équipé d'un outil d'alignement couche-plaquette pour un positionnement précis des plaquettes, réduisant le désalignement des plaquettes pendant l'exposition. Il est également équipé d'un outil de maintenance anti-contamination et peut manipuler des particules aussi petites que 0,2 µm. Dans l'ensemble, AT 1150C est un outil d'exposition avancé conçu pour répondre aux exigences souvent strictes de l'industrie des semi-conducteurs. Ses systèmes avancés d'optique, d'inspection et de manutention des plaquettes en font le choix idéal pour les opérations à grande vitesse, à haut débit et à faible coût de propriété.