Occasion ASML AT 1200 #9360855 à vendre en France

ASML AT 1200
Fabricant
ASML
Modèle
AT 1200
ID: 9360855
Scanner.
ASML AT 1200 est une machine pas à pas de plaquettes, un équipement d'alignement optique pour la lithographie utilisé pour réaliser des circuits intégrés semi-conducteurs (IC). Il utilise des lentilles, des miroirs et d'autres composants optiques pour exposer une image modelée sur une plaquette de silicium. ASML AT-1200 est également capable de produire plusieurs couches de fixation en une seule exposition, ce qui accélère l'ensemble du processus de fabrication. AT 1200 emploie une série de composants avancés pour assurer un alignement précis et reproductible du masque de lithographie fixé sur la plaquette. Il utilise deux scanners Servo Drive synchrones avec une résolution de 0,1 μ m pour déplacer avec précision la plaquette et masquer dans des directions indépendantes. Un système d'équilibrage interne et un accéléromètre à trois axes sont également intégrés pour détecter et régler les déséquilibres ou les inclinaisons en position de masque, ce qui permet à l'unité d'effectuer des corrections rapides sans arrêter l'exposition. AT-1200 utilise deux optiques, une lentille de projection et une lentille de plaquette, pour focaliser la lumière du masque sur la plaquette. Ces lentilles permettent de projeter la lumière du masque de lithographie sur la plaquette avec une grande précision. En outre, une machine de mesure avancée de la lumière est incorporée pour ajuster toute différence dans les niveaux de puissance émis par le masque à travers plusieurs expositions. ASML AT 1200 wafer stepper est également intégré avec des systèmes de lumière, d'air et de vide pour assurer un alignement et un fonctionnement optimaux de l'outil. L'actif lumineux fournit un éclairage économe en énergie et comprend un photomasque qui est personnalisé pour la conception de la couche de chaque circuit intégré et un excitateur pour la lentille de la plaquette qui ajuste l'angle incident de la lumière pour une exposition optimale. Le modèle d'air garantit que l'environnement intérieur de l'étage de la plaquette est exempt de poussière et de particules de débris potentiellement dommageables. Et l'équipement sous vide maintient un environnement stable et cohérent pour un alignement précis du masque dans le système. Dans l'ensemble, ASML AT-1200 wafer stepper est une unité d'alignement optique avancée utilisée par les fabricants de semi-conducteurs IC pour produire des circuits intégrés de haute qualité avec une précision et une efficacité répétables dans le plus court laps de temps. Ses composants automatisés assurent un alignement précis et cohérent du masque de lithographie, tandis que ses systèmes intégrés de lumière, d'air et de vide maintiennent un environnement de fonctionnement optimal.
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