Occasion ASML AT 1200B #293602555 à vendre en France

ASML AT 1200B est un pas de plaquette de pointe utilisé pour la lithographie dans la fabrication de semi-conducteurs. Il fournit un niveau élevé de précision et de reproductibilité, ce qui est essentiel pour structurer les structures nanométriques sur des IC modernes. L'étage de plaquettes est constitué de quelques parties distinctes. Son module optique contient plusieurs lentilles différentes, dont l'objectif réticulaire, qui focalise la lumière d'imagerie sur la plaquette revêtue de résine photosensible. Le réticule est maintenu dans un porte-réticule et balayé dans un motif précis au-dessus de la plaquette. Un étage de plaquette est utilisé pour traduire et faire tourner la plaquette sous l'optique d'imagerie. Le stepper dispose également d'un système d'éclairage avec lampe au xénon mobile, permettant un réglage précis de l'énergie lumineuse UV utilisée pour exposer la résine photosensible. Un système de caméra est également inclus pour l'alignement automatique et la surveillance du processus de balisage. Le stepper est géré par un module de contrôleur informatisé, qui comprend une interface graphique conviviale pour la mise en place et la gestion des paramètres de processus du stepper. Cela permet un haut niveau de précision, de répétabilité et de flexibilité dans l'adaptation à de nouveaux tissus ou réglages de processus. Le stepper comprend également plusieurs fonctions de sécurité intégrées pour s'assurer qu'il fonctionne correctement et prévient tout dommage aux composants critiques ou aux expositions. En plus de sa précision et de sa répétabilité, la conception modulaire du pas permet une installation et un entretien faciles ainsi que des composants électriques et mécaniques séparés pour des réparations plus rapides et plus efficaces. Le stepper est idéal pour les réglages de production en raison de sa technologie d'algorithme d'imagerie avancée et sa capacité à modeler rapidement et de manière fiable les plaquettes. Dans l'ensemble, ASML AT-1200B est un pas de plaquette très précis et sophistiqué construit pour atteindre le plus haut niveau de performance de lithographie. Il est capable de produire des motifs nanométriques extrêmement précis et fournit un haut niveau de vitesse, de précision et de répétabilité pour les processus de production IC modernes.