Occasion ASML AT-850C #9256716 à vendre en France

ASML AT-850C est un pas de plaquette utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. C'est un équipement de lithographie optique de haut débit et de haute précision conçu pour exposer rapidement les plaquettes à des motifs prédéfinis. Dans le processus de fabrication des puces, ASML AT850C peut être utilisé pour exposer des motifs aussi petits que 5 nanomètres. Le système se compose de deux parties : une console et une chambre point d'exposition (POE). La console contient la source de motif (par exemple un dispositif MEMS), la source lumineuse, l'optique et l'électronique associée nécessaires au contrôle de l'appareil. La chambre POE contient tous les éléments mobiles - l'étage plaçant la plaquette dans la position appropriée, l'ensemble moteur pour déplacer l'étage, et le mandrin qui tient la plaquette. Les composants optiques de AT:850C sont constitués de plusieurs composants de haute précision, tels qu'un collimateur, un aligneur de masque, une lentille de projection et un scanner. Le collimateur dirige la lumière sur le masque-aligneur qui maintient le motif en place. La lentille de projection amplifie alors le motif avant sa projection sur la plaquette. Le scanner est utilisé pour déplacer la plaquette à la position appropriée pour capturer le motif. ASML AT 850 C dispose également de plusieurs fonctionnalités avancées pour améliorer la précision et le débit. Il utilise une machine à balayage à cristaux à double tête pour une résolution plus élevée et des vitesses de balayage plus rapides. L'outil dispose également d'un atout d'alignement qui utilise un modèle de mesure laser pour positionner avec précision le réticule et la plaquette l'un par rapport à l'autre. ASML AT:850C comprend également un certain nombre d'autres fonctionnalités pour assurer la précision et la fiabilité, y compris une capacité de focalisation automatique et un équipement de détection de bord pour fournir des commentaires au système sur l'alignement des plaquettes. L'unité comprend également un moniteur d'alignement pour assurer l'alignement précis du masque. En outre, AT 850C est capable de positionner la plaquette jusqu'à 1 micron avec précision et peut traiter des plaquettes jusqu'à 400 mm de diamètre avec peu ou pas de distorsion. La machine est capable d'expositions extrêmement précises pour les petites géométries et peut atteindre des résolutions inférieures à 1 nanomètre. En conclusion, ASML AT 850C est un pas de plaquette de haute précision et à haut débit adapté aux exigences du procédé de fabrication des semi-conducteurs. Ses caractéristiques avancées garantissent des expositions précises et répétables dans un large éventail de géométries et de résolutions. L'actif de balayage de cristaux à double tête de l'outil, le modèle d'alignement et les capacités d'auto-focus offrent des expositions fiables et précises.