Occasion ASML AT-850C #9269680 à vendre en France

Fabricant
ASML
Modèle
AT-850C
ID: 9269680
Stepper, 12" SMIF SECE I / II Reticle size: 6" Wafer type: Notch Left inline flow FOUP Left type: WH MK V Type: RH Library PPD Type: PPD2 + IRL BMU Type: Standard Light source: CYMER Scan speed: 320 mm/sec Chuck 2004 vintage.
ASML AT-850C est un pas de plaquette avancé conçu pour définir avec précision et précision des motifs microscopiques sur la dernière génération de plaquettes semi-conductrices de l'industrie des semi-conducteurs. En projetant de la lumière sur des couches minces de résine photosensible déposées sur la plaquette, on peut créer des motifs précis à base de composants silicates utilisés dans les circuits intégrés. ASML AT850C est un scanner entièrement automatisé, qui balaye l'ensemble du champ de la plaquette en une seule rotation, permettant de projeter l'image sur toute la surface de la plaquette en une seule prise de vue. Cela permet une photolithographie efficace et cohérente. Ce système possède une taille d'étage de 350 mm, ce qui permet de placer un certain nombre de plaquettes différentes sur son étage en même temps, permettant des trajets multiples. AT:850C a été conçu avec des fonctionnalités avancées pour des instances de débit plus élevé. Cela comprend un inspecteur Litho intégré et robuste, qui peut surveiller les motifs, les défauts et d'autres problèmes lithographiques pendant la production. Le pas de plaquette a des étapes avancées qui fournissent un contrôle ultra-strict de l'alignement pour même les plus petites caractéristiques. Les étapes peuvent également effectuer des processus à deux vitesses de rotation différentes, ce qui permet à l'utilisateur de mieux contrôler les processus multiples. ASML AT 850C propose également un certain nombre de méthodes d'éclairage, dont l'imagerie directe laser (LDI) et l'imagerie photolithographique (PI). Grâce à l'une ou l'autre de ces méthodes d'imagerie, il est possible de créer des images à haute résolution en exposant différentes zones de la plaquette à différents niveaux de rayonnement optique. Des caractéristiques aussi minuscules que 0,35 microns peuvent être résolues, permettant à AT 850 C de produire des composants de silicium très complexes et détaillés. ASML AT 850 C possède également des commandes de mouvement synchrones et asynchrones avancées, qui permettent des vitesses de balayage et une répétabilité extrêmement rapides. Le système est basé sur une plate-forme modulaire, ce qui signifie qu'il peut être adapté à des applications et des processus spécifiques, donnant une flexibilité totale à l'utilisateur. Enfin, AT850C est un pas extrêmement robuste, robuste et fiable, qui fait constamment l'objet de tests rigoureux d'assurance de la qualité pour l'ensuréfier toujours à des performances de pointe. Avec ses caractéristiques avancées et ses capacités de production, il est l'un des paliers de wafer les plus avancés technologiquement disponibles sur le marché aujourd'hui.
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