Occasion ASML AT-850C #9281763 à vendre en France

ASML AT-850C est un pas de plaquette haute performance, conçu pour produire des dispositifs semi-conducteurs aux dimensions très fines. Il est capable de réaliser des expositions d'impression couche à couche avec une résolution ultime de µm, ce qui équivaut à 0,25 microns. ASML AT850C utilise un équipement de lithographie avancé pour produire des motifs très fins, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs. Le système est capable de fonctionner en mode pas à pas et balayage à 4 axes, ce qui permet d'améliorer le débit et le débit tout en réduisant les niveaux de bruit. L'unité est composée d'une source lumineuse, de composants optiques, d'une lentille de projection et d'un étage à scanner. La source lumineuse est une lampe au xénon à haute énergie avec une intensité maximale de 200 000 lux, capable de fournir une gamme d'intensité totale allant jusqu'à 350 000 lux. La polarisation de la lumière peut être ajustée pour un modelage optimal. Les composants optiques comprennent des réflecteurs calibrés, des filtres et des éléments optiques conçus pour une qualité d'image optimale. De plus, une caméra à contre-courant est intégrée pour surveiller de façon autonome et continue, entre autres, le désalignement, le contraste, l'exposition et l'état du filtre. Un outil de miroir à décalage de trame de transmission est utilisé pour corriger les distorsions des plaquettes. La lentille de projection est une lentille achromatique de fabrication personnalisée avec une NA maximale de 0,65 et une ouverture de 10-15mm, fournissant un transfert d'énergie optique très uniforme et efficace à la plaquette. La lentille du projecteur a une optique de haute précision pour assurer une puissance lumineuse constante. AT:850C étage basé sur le scanner consiste en un actif avancé d'asservissement en boucle fermée pour déplacer le masque et la plaquette dans l'axe de balayage rapide, suivre à la fois le masque et la température de la plaquette, et surveiller les vibrations du masque et de la plaquette. Une table XY de haute précision spécialement conçue est utilisée pour mettre en scène le masque et la plaquette dans les axes X et Y avec une précision de 10µm. ASML AT 850C est conçu pour soutenir les procédés de lithographie les plus avancés demandés par l'industrie des semi-conducteurs. Il combine un débit et une précision élevés avec une productivité maximale, ce qui permet aux fabricants d'appareils haut de gamme d'obtenir une efficacité maximale.