Occasion ASML AT400S #293621264 à vendre en France

ASML AT400S Wafer Stepper est un outil de photolithographie utilisé pour la fabrication et le transfert de motifs sur un substrat semi-conducteur. Ce stepper a de nombreuses caractéristiques qui en font une partie importante du processus de photolithographie. AT400S dispose d'une taille de tache réglable qui permet une imagerie haute résolution et une précision de recouvrement améliorée. La capacité pas-à-pas de la machine permet des expositions multiples sur une même plaquette, permettant ainsi de réaliser plusieurs conceptions différentes simultanément. ASML AT400S dispose également d'un équipement automatisé d'alignement des plaquettes qui permet un positionnement plus précis de la plaquette sur l'étage, ce qui se traduit par une fixation plus précise du substrat. De plus, le stepper est capable d'exposition à grande vitesse, avec un temps de cycle inférieur à 5 minutes, ce qui fournit à l'opérateur un temps d'exécution rapide. En termes de sécurité, AT400S est conçu avec une zone d'alignement et d'exposition fermée, favorisant la sécurité des utilisateurs ainsi que la protection de la machine contre la contamination par les particules. La machine a également une fonction d'évacuation qui arrache les particules ou les polluants générés au cours du processus de photolithographie et les jette par un dispositif mécanique. Le système d'imagerie de l'ASML AT400S est composé de deux composants : une combinaison de lentilles optiques et une source de « lumière blanche ». Cette combinaison permet des images claires des motifs, avec une résolution allant jusqu'à 0,05 micromètre et une ouverture numérique de 0,75. La source « lumière blanche » est une source lumineuse puissante propre à AT400S, assurant que les images sont aussi claires et précises que possible, améliorant l'efficacité et la précision du processus de lithographie. ASML AT400S est également l'un des outils de photolithographie les plus avancés et les plus fiables disponibles. La machine dispose d'une unité de mesure intégrée pour surveiller et contrôler le processus d'exposition, ainsi que d'une machine de centrage de plaquettes laser qui permet le centrage automatisé de la plaquette sur le substrat. Avec ces capacités AT400S a le potentiel de fournir des modèles extrêmement précis, ce qui augmente considérablement la performance et la précision du processus de lithographie. Dans l'ensemble, ASML AT400S Wafer Stepper est un outil idéal pour la fabrication et le transfert de motifs sur substrats. Sa taille réglable, son outil automatisé d'alignement des plaquettes et ses capacités d'exposition à grande vitesse offrent à l'utilisateur une gamme d'options pour divers processus de photolithographie et en font une partie importante du processus de lithographie.