Occasion ASML LISAP 3P #9292410 à vendre en France

ASML LISAP 3P est un pas de tranche de nouvelle génération utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour des applications de photolithographie. La machine dispose d'une structure sophistiquée à trois plateaux pour un mouvement incrémental efficace et précis et l'alignement des couches de plaquettes semi-conductrices. Les composants principaux de l'étage de la plaquette sont le cadre principal, l'équipement d'entraînement, les moteurs synchrones, l'interféromoteur, le système optique, l'unité à vide et d'autres composants périphériques. Le cadre principal est conçu pour assurer un mouvement et un fonctionnement constants et stables du pas de plaquette. Ceci est réalisé par une construction ultra légère et rigide, comprenant un boîtier intérieur, une plaque support et une paroi extérieure. La machine d'entraînement intègre un moteur d'entraînement embarqué, qui fournit un mouvement incrémental lisse et précis du pas. Les moteurs sont alimentés par un moteur programmable, qui est capable de contrôler avec précision la vitesse des moteurs avec une superbe précision. L'outil optique utilise la technologie de mise en forme des faisceaux pour assurer la résolution et la précision les plus élevées du mouvement du pas. Cet atout est composé d'une combinaison de technologie d'optique multicouche, de techniques de microlithographie et d'étalonnages précis, qui travaillent tous ensemble pour assurer un alignement laser parfait et un positionnement précis des plaquettes. Le modèle de vide est utilisé pour maintenir un environnement sûr pendant que le stepper est en fonctionnement, fournissant un environnement de travail lisse et propre. Le stepper dispose d'une variété de fonctionnalités avancées qui le rendent hautement personnalisable. La console de l'opérateur est équipée d'écrans tactiles et de boutons pour permettre la programmation et le fonctionnement du pas de manière intuitive. Il peut être programmé pour exécuter plusieurs types différents d'étapes de processus de photolithographie et ajustera automatiquement les paramètres en fonction des exigences du processus. En outre, la machine peut être intégrée avec d'autres scanners et d'autres équipements spécialisés tels que des générateurs de motifs et des systèmes de métrologie optique. LISAP 3P est une machine très fiable et robuste conçue pour répondre aux besoins de production exigeants et précis de l'industrie des semi-conducteurs. Ses caractéristiques avancées se combinent pour fournir une capacité de positionnement efficace et précise des plaquettes, permettant des cycles de production précis et reproductibles.