Occasion ASML PAS 2500 / 30 #9234701 à vendre en France

ASML PAS 2500/30 est un pas de plaquette de pointe conçu spécifiquement pour les exigences de l'industrie moderne des semi-conducteurs. Cette série d'étapes offre des options de lithographie flexibles pour la lithographie sans masque, la reconnaissance de motifs optiques et la superposition de motifs. Le PAS 2500/30 est alimenté par des technologies de pointe et conçu pour des rendements élevés et un faible coût de possession. L'ASML PAS 2500/30 obtient des performances d'imagerie supérieures grâce à sa Quad-VFD HSIS Optics et à son design unique d'éclairage Veeco. Ce pas fournit une sortie d'imagerie supérieure et une profondeur de focalisation étendue avec son laser infrarouge de grande puissance pour une uniformité et une résolution optimisées. L'optique HSIS Quad-VFD offre également une optimisation de conception haute efficacité et haute précision, et prend en charge les applications avancées de recherche de motifs. La conception de l'éclairage Veeco garantit une excellente efficacité d'imagerie, minimisant l'interférence des motifs et fournissant des vitesses de traitement rapides. PAS 2500/30 permet également des capacités de Pattern Overlay, ce qui permet la mesure précise et l'alignement de plusieurs couches pour la production de lithographie avancée. Le matériel et les logiciels avancés de ce stepper offrent une répétabilité et une précision améliorées dans les applications de lithographie complexes. Il fournit également une précision d'alignement allant jusqu'à +/- 1um le long des axes x et y, et jusqu'à +/- 0.5um le long de l'axe z sur une plaquette de 6 pouces. Pour la production de lithographie automatisée, ASML PAS 2500/30 offre des capacités de lithographie sans masque et de reconnaissance de motifs optiques. La lithographie sans masque permet la génération automatique de motifs de plaquettes de haute qualité et de formes complexes sans masques ni maîtres, ce qui réduit les coûts de production globaux. Sa fonction intégrée de reconnaissance de motifs optiques offre une reconnaissance de motifs très précise et des coutures automatiques de plaquettes pour des temps d'exécution rapides. PAS 2500/30 est un choix idéal pour les applications modernes de lithographie de haute technologie qui nécessitent une précision. Il offre des performances d'imagerie avancées, des capacités de superposition précises, une lithographie sans masque de pointe et des fonctionnalités OPR pour une meilleure production de plaquettes.