Occasion ASML PAS 2500 / 40 #138919 à vendre en France

ASML PAS 2500/40 est un pas de plaquette haut de gamme conçu pour des applications de lithographie de haute précision. L'équipement est capable de produire des photomasques pour la fabrication de circuits intégrés (IC) avec une largeur de ligne minimale précise de 0,35 microns. Il offre également un débit élevé avec une taille de champ maximale de 254 mm. Le système est entraíné par un étage mécanique à deux axes, permettant un déplacement très précis de la plaquette 16 « ou 24 ». Il dispose d'une unité de contrôle de focalisation brevetée, qui maintient avec précision une focalisation et une taille de champ uniformes dans toute la zone de visualisation. La machine dispose également d'un outil de projection sous vide, qui se traduit par des résolutions plus grandes et des aberrations d'image réduites. La lumière pour l'actif est produite à l'aide d'une source laser excimère de fluorure de krypton (KrF). La source laser est capable de produire une longueur d'onde de 248nm, avec une fréquence de répétition d'impulsions allant jusqu'à 60Hz, et une puissance d'énergie allant jusqu'à 100mJ/pulse. Cela permet au modèle d'exposer avec précision et précision même les plus petits motifs sans les endommager. L'équipement fournit également une basse température de fonctionnement et une grande stabilité thermique comme conçu pour les applications sensibles. Sa chambre de projection sous vide assure une stabilité à haute température, en maintenant la température de la plaquette à ± 0,3 ° C Pour le contrôle et l'étalonnage de l'utilisateur, le système fournit une interface utilisateur sur le Web. Cela permet aux utilisateurs d'entrer facilement les données de conception, d'ajuster les configurations, d'ajuster les paramètres, de télécharger les données et de vérifier l'état de l'unité. Il comprend également plusieurs fonctions d'exploitation à distance telles que la commande de vue, la cartographie des plaquettes et la commande de repérage. En conclusion, l'ASML PAS 2500/40 est capable de produire des CI d'une largeur de raie minimale de 0,35 micron, d'une taille de champ maximale de 254 mm et d'une machine de projection sous vide qui assure une stabilité à haute température. Son laser KrF excimer offre une longueur d'onde de 248nm et une puissance énergétique élevée allant jusqu'à 100mJ/pulse, assurant des expositions très précises sans endommager les motifs. L'outil fournit également une interface utilisateur sur le Web pour le fonctionnement facile et la télécommande de plusieurs paramètres. PAS 2500/40 est idéal pour les applications de lithographie de haute précision.